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公司介紹主營產(chǎn)品

深圳海創(chuàng)德科技有限公司成立于2012年，由數(shù)位理工科博士創(chuàng)辦，團(tuán)隊(duì)成員均為理工科博士和碩士，具有高水平的專業(yè)水準(zhǔn)。公司致力于半導(dǎo)體微加工及分析設(shè)備的銷售和安裝服務(wù)，產(chǎn)品覆蓋薄膜制備，物性測量和表面分析。經(jīng)營的主要產(chǎn)品如下：1. 磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、PECVD、LPCVD、ALD、RIE、ICP、RTP、涂膠機(jī)和熱板等薄膜技術(shù)相關(guān)的設(shè)備；2. 美國Kimball Physics的電子槍、離子槍、真空腔體和熒光屏等部件；美國OCI的LEED和AES等各種真空組件；美國MicroXact的真空、低溫和磁場等數(shù)種探針臺(tái)；3. 我們還提供上述設(shè)備的配套部件及耗材，如直流和射頻電源、靶材、探針、光刻膠和ALD耗材等。我們的產(chǎn)品性價(jià)比高，品質(zhì)精良，性能*，在歐美及中國臺(tái)灣地區(qū)具有的口碑，國內(nèi)眾多的科研院所和大學(xué)均對(duì)我們的產(chǎn)品報(bào)以好評(píng)。我們期待以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品，良好的服務(wù)和專業(yè)的技術(shù)為更多的客戶提供解決方案！期待與您的合作！

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產(chǎn)品簡介在線詢價(jià)

化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporDeposition,CVD)是指高溫環(huán)境下氣態(tài)反應(yīng)劑在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程，廣泛應(yīng)用于金屬、氧化物、氮化物及碳化物等無機(jī)薄膜的制備

化學(xué)氣相沉積（PECVD）產(chǎn)品詳情

化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition, CVD)是指高溫環(huán)境下氣態(tài)反應(yīng)劑在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程，廣泛應(yīng)用于金屬、氧化物、氮化物及碳化物等無機(jī)薄膜的制備。PECVD(Plasma Enhanced CVD)是借助射頻使氣體電離產(chǎn)生局部等離子體，等離子體活性可有效促進(jìn)反應(yīng)，從而降低反應(yīng)溫度，加快成膜速率。

技術(shù)參數(shù)：

1 基片尺寸可定制；

2 低溫工藝：< 150℃ / 350℃；

3 多層式工藝氣體導(dǎo)入，氣體分布均勻；

4 獨(dú)立MFC控制箱，可靈活擴(kuò)充工藝氣路；

5 基片內(nèi)鍍膜均勻性優(yōu)于 ±5%；

6 可與手套箱集成；

關(guān)鍵詞：手套箱

熱門產(chǎn)品

產(chǎn)品名稱	參考價(jià)	地區(qū)	公司名稱	更新時(shí)間
R-200 Advance 原子層沉積系統(tǒng)	面議	上海	上海德竹芯源科技有限公司	2024-08-11	在線詢價(jià)
R-200 Standard 原子層沉積系統(tǒng)	面議	上海	上海德竹芯源科技有限公司	2024-08-11	在線詢價(jià)
P-300B 原子層沉積系統(tǒng)	面議	上海	上海德竹芯源科技有限公司	2024-08-11	在線詢價(jià)
等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)	面議	上海	上海德竹芯源科技有限公司	2024-08-10	在線詢價(jià)
芬蘭Picosun原子層沉積系統(tǒng)	面議	廣州市	廣州納儀科技有限公司	2024-05-12	在線詢價(jià)
等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)	面議	上海	上海德竹芯源科技有限公司	2024-01-19	在線詢價(jià)

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