一、公司介紹

1）Picosun – ALD者

“世界上沒有一個ALD公司能擁有像Picosun那樣的資質?！?Picosun的研究歷史和背景始于原子層沉積領域研究起步時期。ALD原子層沉積系統(tǒng)是由Dr. Tuomo Suntola 于1974年在芬蘭發(fā)明的，他現(xiàn)在是Picosun董事會成員之一。Picosun的創(chuàng)建者和技術執(zhí)行官(CTO)Mr. Sven Lindfors早在1975年已經創(chuàng)造出的ALD系統(tǒng)，他被譽為“世界上經驗豐富的ALD反應器設計師”。

Picosun是ALD。及國內。

如今Picosun持續(xù)致力于ALD系統(tǒng)研究已經長達50多年，研究團隊加在一起具有300多年的最直接的原子層沉積專項技術研究經驗。Picosun建立于1997年，核心團隊成員都是由具有學術專業(yè)水平的科研人員組成，都是ALD方面的專家。Picosun團隊，被廣泛譽為“的ALD團隊”，已經對ALD貢獻了100多項，我們與的研究機構和主流的工業(yè)單位密切合作，鞏固了我們在ALD研究的前沿位置。

2）PICOSUN公司的承諾

芬蘭PICOSUN公司ALD系統(tǒng)的設計保證了能夠對各種工藝參數(shù)的嚴格控制，確保得到極度均勻、高重復性的高質量薄膜。設備容易操作、高度可靠。

二、R-200 Adv 原子層沉積系統(tǒng)技術指標

1. 腔體：采用雙層腔體結構。

1.1 真空腔體：

（1）加熱溫度≥650℃；

（2）真空腔體無水冷系統(tǒng)；

（3）真空腔體所有接口采用KF法蘭和Viton密封圈密封，腔體漏率低于2x10^-8mbar.l/s。

1.2 反應腔：

（1）反應腔可沉積200 mm基片1個, 兼容小基片；

（2）反應腔上配備6個獨立的前軀體源管路接口，與前軀體源管路連接，前驅體蒸汽相對襯底流動模式為噴灑淋浴模式；

（3）反應腔沉積溫度，熱工藝沉積溫度600 °C。

（4）基片加載采用氣動基片加載/卸載系統(tǒng)，由電腦自動控制；

（5）配備顆粒捕捉器及反應殘余物燃燒器。

2. 前軀體輸運系統(tǒng)：

（1）配備6路獨立的前軀體源管路。

（2）配置的質量流量、壓力傳感器、脈沖閥，采用VCR金屬密封方式密封。

（3）每個液態(tài)源單獨配備帕爾帖（Peltier）溫度控制器1套。

（4）加熱源具用boosting功能，加熱溫度不低于300℃。

3. 等離子模塊：

（1）配備遠程等離子模塊，包括匹配網(wǎng)絡、等離子體發(fā)生器、包括4路等離子氣路；

（2）每條管路單獨配置的質量流量、壓力傳感器、脈沖閥；

（3）等離子ALD和熱ALD共用一個腔，等離子體發(fā)生器與基底必須保持足夠距離,功率：100-3000W可調。

4. 真空系統(tǒng)：配備耐腐蝕真空干泵；真空泵抽速≥400m3/h。

5. 預真空系統(tǒng)：預真空腔及其配備單獨的干泵，可以傳送200 mm (8英寸) 基片,。

6. 控制系統(tǒng)：

   (1) 觸摸屏PC用于ALD反應器的操作，的控制軟件和電子電路；人性化的HMI界面，系統(tǒng)可用于處方recipe 模式或手動模式；

   (2) 操作界面友好，具備程序儲存、讀取功能，能夠輸出實驗數(shù)據(jù)，顯示24個小時內設備系統(tǒng)各部分參數(shù)的時間趨勢圖，包括各部分質量流量、溫度、壓強的時間趨勢圖，用于監(jiān)測設備穩(wěn)定性；

   (3) 沉積過程中監(jiān)測顯示每個源管路的脈沖壓強，顯示脈沖壓強與時間關系圖，用于監(jiān)測脈沖穩(wěn)定性；

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