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ALD-SC6-PE / ALD-SC8-PE/ ALD-SC12-PE 等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)

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  • 型號(hào)ALD-SC6-PE/ALD-SC8-P
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新時(shí)間2024-01-19
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量167
  • 人氣值541
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上海德竹芯源科技有限公司是一家專注于功率器件、光電器件、射頻器件、量子器件、MEMS傳感器領(lǐng)域的設(shè)備銷售、系統(tǒng)集成、設(shè)備國(guó)產(chǎn)化的公司。主要為高校、研究所、中試量產(chǎn)線及晶圓FAB廠提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備、檢測(cè)設(shè)備、封裝設(shè)備、測(cè)試設(shè)備。目前公司已成為國(guó)內(nèi)少數(shù)幾家專業(yè)提供半導(dǎo)體工藝、檢測(cè)、封裝、測(cè)試整體解決方案的企業(yè)。公司主要成員為復(fù)旦大學(xué)、上海微系統(tǒng)所等半導(dǎo)體相關(guān)專業(yè)博士,擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)過(guò)硬的團(tuán)隊(duì)。能夠出色地完成售前售中、售后的服務(wù)。目前公司已與眾多國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系(如:EVG、SAWNATEC、SENTECH、PICOSUN、SYSKEY、 Mavemn Panalyrical、PHL-CHINA、TEMPRESS,ROHDE&SCHWARZ、MPI等),致力于根據(jù)用戶的科研方向和量產(chǎn)的器件類別提供相應(yīng)的全套設(shè)備選型和工藝整體解決方案。
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金屬有機(jī)物前驅(qū)體和反應(yīng)氣體在真空腔體交替填充、覆蓋且反應(yīng),形成原子級(jí)精度(厚度和原子排布)的薄膜。
等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)

Plasma Enhansed Atomic Layer Deposition - PEALD

用高速隔膜閥使得前驅(qū)體以脈沖的方式填充腔體到表面吸附飽和,再使用反應(yīng)氣體將腔內(nèi)表面的自由基反應(yīng)成目標(biāo)材料,反復(fù)執(zhí)行,即可在腔內(nèi)形成單晶超薄薄膜??沙练e大部分氧化和氮化物薄膜,也可根據(jù)應(yīng)用需求沉積硫化物,硒化物等。目標(biāo)薄膜的厚度多在 0-100 nm 范圍區(qū)間,薄膜致密性好,晶格取向一致,且可覆蓋或填充各種微納結(jié)構(gòu),是目前已知的覆蓋度較好的薄膜技術(shù)。

原子層沉積原理


金屬有機(jī)物前驅(qū)體兼容性強(qiáng),合成相對(duì)靈活,所以原子層沉積技術(shù)基本可以覆蓋絕大部分常用材料薄膜。

原子層沉積相關(guān)的元素


原子層沉積技術(shù)以氣流與待沉積表面的相對(duì)方向可分為水平流和垂直流,二者均可實(shí)現(xiàn)大面良好均勻性沉積。

Syskey PEALD構(gòu)造


應(yīng)用領(lǐng)域:

介質(zhì)薄膜

半導(dǎo)體薄膜

光學(xué)薄膜

薄膜封裝


應(yīng)用展示:




配置選型:


配置特點(diǎn):

樣品尺寸:6寸、8寸、12寸

本底真空優(yōu)于 5 × 10-2 Torr

前驅(qū)物管路:最多 6 路前驅(qū)物,其中一路為H2O

反應(yīng)氣體:氧氣,臭氧,氮?dú)?,氨氣,氫氣,根?jù)鍍膜材料選擇

前驅(qū)物加熱與冷卻功能可選,且可替換

300W CCP 等離子體模塊,支持熱模式與等離子體增強(qiáng)模式

可與手套箱集成,支持多種取放樣方式

支持多腔體互聯(lián),實(shí)現(xiàn)原位多層膜沉積(PECVD&PEALD)

配置選型:


配置特點(diǎn):

樣品尺寸:6寸、8寸、12寸

本底真空優(yōu)于 5 × 10-2 Torr

前驅(qū)物管路:最多 6 路前驅(qū)物,其中一路為H2O

反應(yīng)氣體:氧氣,臭氧,氮?dú)猓睔猓瑲錃?,根?jù)鍍膜材料選擇

前驅(qū)物加熱與冷卻功能可選,且可替換

300W CCP 等離子體模塊,支持熱模式與等離子體增強(qiáng)模式

可與手套箱集成,支持多種取放樣方式

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