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公司介紹主營產(chǎn)品

深圳海創(chuàng)德科技有限公司成立于2012年，由數(shù)位理工科博士創(chuàng)辦，團隊成員均為理工科博士和碩士，具有高水平的專業(yè)水準。公司致力于半導體微加工及分析設備的銷售和安裝服務，產(chǎn)品覆蓋薄膜制備，物性測量和表面分析。經(jīng)營的主要產(chǎn)品如下：1. 磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、PECVD、LPCVD、ALD、RIE、ICP、RTP、涂膠機和熱板等薄膜技術(shù)相關(guān)的設備；2. 美國Kimball Physics的電子槍、離子槍、真空腔體和熒光屏等部件；美國OCI的LEED和AES等各種真空組件；美國MicroXact的真空、低溫和磁場等數(shù)種探針臺；3. 我們還提供上述設備的配套部件及耗材，如直流和射頻電源、靶材、探針、光刻膠和ALD耗材等。我們的產(chǎn)品性價比高，品質(zhì)精良，性能*，在歐美及中國臺灣地區(qū)具有的口碑，國內(nèi)眾多的科研院所和大學均對我們的產(chǎn)品報以好評。我們期待以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品，良好的服務和專業(yè)的技術(shù)為更多的客戶提供解決方案！期待與您的合作！

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產(chǎn)品簡介在線詢價

低壓化學氣相沉積(LowPressureChemicalVaporDeposition,LPVD)是指在較低氣壓下環(huán)境進行薄膜沉積，可進行大面積小批量樣品沉積

低壓化學氣相沉積（LPCVD）產(chǎn)品詳情

低壓化學氣相沉積(Low Pressure Chemical Vapor Deposition, LPVD)是指在較低氣壓下環(huán)境進行薄膜沉積，可進行大面積小批量樣品沉積。

技術(shù)參數(shù)：

1 基片尺寸可定制，可達10 英寸；

2 加熱溫度 1700 ℃，單溫區(qū)或者多溫區(qū)可選；

3 最多可配置6路工藝氣體；

4 配備油泵或者干泵，可選配分子泵；

5 樣品水平，垂直兩種配置模式；

6 可小批量量產(chǎn)；

應用領(lǐng)域：

LPCVD

退火

擴散

氧化

產(chǎn)品彩頁下載

熱門產(chǎn)品

產(chǎn)品名稱	參考價	地區(qū)	公司名稱	更新時間
R-200 Advance 原子層沉積系統(tǒng)	面議	上海	上海德竹芯源科技有限公司	2024-08-11	在線詢價
R-200 Standard 原子層沉積系統(tǒng)	面議	上海	上海德竹芯源科技有限公司	2024-08-11	在線詢價
P-300B 原子層沉積系統(tǒng)	面議	上海	上海德竹芯源科技有限公司	2024-08-11	在線詢價
等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)	面議	上海	上海德竹芯源科技有限公司	2024-08-10	在線詢價
芬蘭Picosun原子層沉積系統(tǒng)	面議	廣州市	廣州納儀科技有限公司	2024-05-12	在線詢價
等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)	面議	上海	上海德竹芯源科技有限公司	2024-01-19	在線詢價

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