AL-1通過(guò)交替向反應(yīng)室提供有機(jī)金屬原料和氧化劑,僅利用表面反應(yīng)沉積薄膜,實(shí)現(xiàn)了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率。薄膜的厚度可以控制在原子層的數(shù)量級(jí)。此外,可以在高寬比的孔內(nèi)壁上沉積覆蓋性好、厚度均勻的薄膜。可同時(shí)沉積3片?4英寸的晶片。
主要特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)
成膜效率高
通過(guò)提供幾十毫秒量級(jí)的脈沖,減少了原材料的損耗,提高了沉積效率。
真空清潔,溫度不均勻性小
通過(guò)緊貼反應(yīng)室內(nèi)壁的內(nèi)壁加熱器,抑制反應(yīng)室的溫度不均勻,可獲得清潔的真空。
無(wú)針孔成膜
由于多種前驅(qū)體在反應(yīng)室中沒(méi)有混合,因此可以防止顆粒,形成無(wú)針孔的薄膜。
應(yīng)用
用于下一代功率器件的柵極氧化膜和鈍化膜。
在3D結(jié)構(gòu)上形成均勻的薄膜,如MEMS。
激光表面的沉積
碳納米管的鈍化膜