PD-3800L是一種能夠沉積硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)的鎖載等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)。
該系統(tǒng)由于采用了大型反應(yīng)室,并通過載盤裝載多片晶圓進(jìn)行批量處理,因此產(chǎn)量較高。在直徑360mm的區(qū)域內(nèi)可以沉積出具有優(yōu)異的厚度均勻性和應(yīng)力控制的薄膜,具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和可重復(fù)性。用戶友好的觸摸屏界面用于參數(shù)控制和配方存儲。該系統(tǒng)是大規(guī)模生產(chǎn)用薄膜沉積的理想選擇,具有優(yōu)異的重復(fù)性。
主要特點和優(yōu)勢
加工范圍:?360 mm (?3" x 9, ?4" x 6, ?6" x 3)
優(yōu)異的均勻性和應(yīng)力控制
的工藝穩(wěn)定性和可重復(fù)性
堅固的系統(tǒng),的運行/維護(hù)成本
用戶友好的觸摸屏界面,用于參數(shù)控制和配方存儲。
應(yīng)用
SiH4-SiNx
SiH4-SiO2
液體前驅(qū)體(SN-2)SiNx。
TEOS-SiO2