上海德竹芯源科技有限公司
上海德竹芯源科技有限公司
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號ALD-SC6-PE / ALD-SC8-PE/ ALD-SC12-PE
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地上海
聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式
更新時間：2024-01-19 08:06:18瀏覽次數(shù)：328次
聯(lián)系我時，請告知來自 儀表網(wǎng)金屬有機物前驅(qū)體和反應(yīng)氣體在真空腔體交替填充、覆蓋且反應(yīng)，形成原子級精度（厚度和原子排布）的薄膜。
等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)
Plasma Enhansed Atomic Layer Deposition - PEALD
用高速隔膜閥使得前驅(qū)體以脈沖的方式填充腔體到表面吸附飽和，再使用反應(yīng)氣體將腔內(nèi)表面的自由基反應(yīng)成目標(biāo)材料，反復(fù)執(zhí)行，即可在腔內(nèi)形成單晶超薄薄膜?？沙练e大部分氧化和氮化物薄膜，也可根據(jù)應(yīng)用需求沉積硫化物，硒化物等。目標(biāo)薄膜的厚度多在 0-100 nm 范圍區(qū)間，薄膜致密性好，晶格取向一致，且可覆蓋或填充各種微納結(jié)構(gòu)，是目前已知的覆蓋度較好的薄膜技術(shù)。
原子層沉積原理
金屬有機物前驅(qū)體兼容性強，合成相對靈活，所以原子層沉積技術(shù)基本可以覆蓋絕大部分常用材料薄膜。
原子層沉積相關(guān)的元素
原子層沉積技術(shù)以氣流與待沉積表面的相對方向可分為水平流和垂直流，二者均可實現(xiàn)大面良好均勻性沉積。
Syskey PEALD構(gòu)造
應(yīng)用領(lǐng)域：
● 介質(zhì)薄膜
● 半導(dǎo)體薄膜
● 光學(xué)薄膜
● 薄膜封裝
應(yīng)用展示：
配置選型：
配置特點：
● 樣品尺寸：6寸、8寸、12寸
● 本底真空優(yōu)于 5 × 10-2 Torr
● 前驅(qū)物管路：最多 6 路前驅(qū)物，其中一路為H2O
● 反應(yīng)氣體：氧氣，臭氧，氮氣，氨氣，氫氣，根據(jù)鍍膜材料選擇
● 前驅(qū)物加熱與冷卻功能可選，且可替換
● 300W CCP 等離子體模塊，支持熱模式與等離子體增強模式
● 可與手套箱集成，支持多種取放樣方式
● 支持多腔體互聯(lián)，實現(xiàn)原位多層膜沉積（PECVD&PEALD）
配置選型：
配置特點：
● 樣品尺寸：6寸、8寸、12寸
● 本底真空優(yōu)于 5 × 10-2 Torr
● 前驅(qū)物管路：最多 6 路前驅(qū)物，其中一路為H2O
● 反應(yīng)氣體：氧氣，臭氧，氮氣，氨氣，氫氣，根據(jù)鍍膜材料選擇
● 前驅(qū)物加熱與冷卻功能可選，且可替換
● 300W CCP 等離子體模塊，支持熱模式與等離子體增強模式
● 可與手套箱集成，支持多種取放樣方式
● 支持多腔體互聯(lián)，實現(xiàn)原位多層膜沉積（PECVD&PEALD）
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
儀表網(wǎng) 設(shè)計制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
