詳細摘要： EVG 610 光刻機主要應用于半導體、微電子、光電、生物醫(yī)療等領(lǐng)域，在生產(chǎn)精密電子元件、微型機械元件和光學元件等方面有著廣泛的應用。
產(chǎn)品型號：所在地：上海更新時間：2024-08-12 在線留言上海德竹芯源科技有限公司
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詳細摘要： EVG 610 光刻機主要應用于半導體、微電子、光電、生物醫(yī)療等領(lǐng)域，在生產(chǎn)精密電子元件、微型機械元件和光學元件等方面有著廣泛的應用。
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詳細摘要： EVG 620NT 光刻機主要應用于半導體、微電子、光電、生物醫(yī)療等領(lǐng)域，用于生產(chǎn)精密電子元件、微型機械元件和光學元件等。
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詳細摘要： EVG 510 是一款高效率的微結(jié)構(gòu)光刻機。主要用于多層芯片制造，特別適用于需要高精度、高效率、低成本和高產(chǎn)量的高科技領(lǐng)域。
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詳細摘要： EVG 520IS 是一款高效的芯片鍵合系統(tǒng)，這種系統(tǒng)是一種高效、靈活的解決方案，用于提供高精度的晶元鍵合以及片上結(jié)構(gòu)，以滿足微電子制造的需求。它的特點是采用高...
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詳細摘要： EVG 的 805 解鍵合系統(tǒng)是一種高效的解鍵合解決方案，用于制造各種微電子器件，特別適用于高頻、高功率等特殊需求。
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詳細摘要： EVG 620BA 對準系統(tǒng)是 EVG 公司生產(chǎn)的一種光學對準系統(tǒng)。主要用于幫助用戶精確地對齊樣品，以確保高質(zhì)量的光學處理。EVG 620BA 對準系統(tǒng)具有高精...
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詳細摘要： HP-150熱板應用于光刻、MEMS 或相似工藝中，為提供精準的前烘和后烘工藝而存在。溫度范圍默認可達到 250°C。設(shè)定溫度與實際溫度之間幾乎無偏差，可達到非...
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詳細摘要： HP-200 熱板應用于光刻、MEMS 或相似工藝中，為提供精準的前烘和后烘工藝而存在。溫度范圍默認可以達到 250°C。設(shè)定溫度與實際溫度之間幾乎無偏差，可達...
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詳細摘要： SM-150 是手動或半自動薄膜涂覆的優(yōu)選，適用于表面沒有或有非常低形貌的基板涂膠作業(yè)。大多光刻膠與涂層材料都可被均勻涂覆到尺寸為150 mm (6")的晶圓或...
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詳細摘要： 半自動勻膠機 SM-200 可處理沒有或表面結(jié)構(gòu)非常低的襯底。SM系列，擁有高水平的均勻性和重復性。所有商業(yè)光阻劑都可被均勻涂布。針對多種多樣的應用設(shè)計的專用卡...
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詳細摘要： 針對具備高度結(jié)構(gòu)化晶圓形貌、深度 MEMS 結(jié)構(gòu)或不平整表面特征的基板，SAWATEC 公司的 iSPRAY-300 能確保盡可能均勻的噴涂效果。它是一款精密的...
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詳細摘要： 對曝光后的光刻膠進行顯影是很關(guān)鍵的一步，因此需要謹慎選擇顯影工藝和顯影劑。半自動顯影機 SMD-200 可保證即使再厚的膠層均可實現(xiàn)高超的顯影工藝效果，低化藥消...
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詳細摘要： SM-200/HP-200 組合式系統(tǒng) SAWATEC 的 SM-200/HP-200 是由 SM-200 勻膠和 HP-200 熱板組成的一個緊湊的柜式機，這...
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詳細摘要： Depolab 200 是 SENTECH 開發(fā)的高性價比等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設(shè)備，它結(jié)合了用于均勻薄膜沉積的平行板電極設(shè)計和直接載片的成本效...
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詳細摘要： SI 500 D 是基于平行板三螺旋天線（PTSA）設(shè)計的平行板電極式電感耦合等離子體化學氣相沉積（ICP-CVD）設(shè)備，PTSA射頻等離子體源可有效地提高等離...
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詳細摘要： SI 500 PPD 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)采用經(jīng)典平行板電極設(shè)計，兼容低溫沉積工藝。
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詳細摘要： SI 500 基于 ICP 等離子體源 PTSA，動態(tài)溫度控制的襯底電極，全自動控制的真空系統(tǒng)，使用遠程現(xiàn)場總線技術(shù)的的 SENTECH 控制軟件和用于操作 S...
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詳細摘要： Etchlab 200 RIE 等離子刻蝕機代表了直接置片等離子刻蝕機家族，它結(jié)合了 RIE 的平行板電極設(shè)計和直接置片的成本效益設(shè)計的優(yōu)點。
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詳細摘要： 靈活性、模塊性和占地面積小是 SI 591 的設(shè)計特點。
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詳細摘要： SENTECH 多腔系統(tǒng)包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機械手臂，可適用于三至六個端口?？墒褂枚噙_兩個片盒站來增加產(chǎn)量...
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