上海德竹芯源科技有限公司
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更新時(shí)間：2024-08-12 07:30:46瀏覽次數(shù)：174次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 儀表網(wǎng)EVG 620NT 光刻機(jī)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、光電、生物醫(yī)療等領(lǐng)域，用于生產(chǎn)精密電子元件、微型機(jī)械元件和光學(xué)元件等。
主要特點(diǎn)及參數(shù)
● 高效率：采用的光學(xué)技術(shù)，縮短了生產(chǎn)周期，提高了生產(chǎn)效率
● 高精度：通過對(duì)光學(xué)系統(tǒng)的精細(xì)調(diào)整，保證圖像的精確性
● 易操作：系統(tǒng)控制簡(jiǎn)單方便，易于生產(chǎn)操作
● 設(shè)備安全：系統(tǒng)采用安全設(shè)計(jì)，確保生產(chǎn)過程中的人員和設(shè)備安全
● 技術(shù)支持：提供專業(yè)的技術(shù)支持和售后服務(wù)，保證系統(tǒng)的正常使用
● 光刻材料：支持多種光刻材料，包括硅片、玻璃片、聚碳酸酯等
● 半導(dǎo)體工藝：支持常用的半導(dǎo)體工藝，如薄膜沉積、光刻、蝕刻等
● 光刻工具：支持常用的光刻工具，如光刻掩膜、光刻模板等
● 分辨率：可達(dá)到 100 nm
● 工作面積：620 mm × 620 mm
● 光源：KrF 激光
● 光路系統(tǒng)：F-Theta 鏡
EVG 620NT 光刻機(jī)的工藝過程大致如下：
1. 材料準(zhǔn)備：選擇適當(dāng)?shù)墓饪滩牧希绻杵?、玻璃片等，進(jìn)行表面處理
2. 掩膜制作：根據(jù)生產(chǎn)要求，制作光刻掩膜，并確保掩膜的精確性
3. 樣品處理：將樣品固定在工作臺(tái)上，并確保樣品的穩(wěn)定性
4. 光刻操作：打開光刻機(jī)，根據(jù)生產(chǎn)要求，對(duì)樣品進(jìn)行光刻處理
5. 樣品檢查：檢查樣品的質(zhì)量，確保其符合生產(chǎn)要求
● 分辨率：可達(dá)到 100 nm
● 工作面積：620 mm × 620 mm
● 光源：KrF 激光
● 光路系統(tǒng)：F-Theta 鏡
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