μPhaes PLANO UP - 生產(chǎn)中檢測(cè)平面零件的干涉儀設(shè)備
| 緊湊、穩(wěn)定、具有成本效益的μPhase PLANO UP 干涉儀可被應(yīng)用于生產(chǎn)中，該設(shè)備占地面積小，可被放置在生產(chǎn)機(jī)器旁，使樣品在加工后能夠被直接檢測(cè)，μPhase PLANO UP向上測(cè)量平面樣品，樣品位于儀器的頂部。 |  |
主要特征
*檢測(cè)平面光學(xué)零件；
*樣品直徑：可達(dá)100mm；
*占地面積??；
*振動(dòng)不敏感；
*在檢測(cè)一系列樣品時(shí)，不需要重新校準(zhǔn)；
*直觀簡(jiǎn)便的操作。即便是不熟練的員工也能操作；
μShape干涉儀軟件
| 每個(gè)μPhase干涉儀都提供了一個(gè)應(yīng)用的μShape軟件版本。它用于測(cè)量平面、球面、圓柱面、復(fù)曲面和非球面或波陣面的形貌，適用于生產(chǎn)，實(shí)驗(yàn)室和研究，附加模塊可以使軟件適應(yīng)客戶特定的需求，即使購(gòu)買了μPhase系統(tǒng)，也可以隨時(shí)添加這些模塊。 該軟件控制和顯示測(cè)量結(jié)果，存儲(chǔ)和記錄所有測(cè)量原始數(shù)據(jù)，并確保透明度和可追溯性。 憑借其清晰的驅(qū)動(dòng)用戶界面，μShape滿足各種測(cè)量要求。并提供了幾個(gè)擴(kuò)展μShape功能的模塊。 |  μShape干涉儀軟件 |
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| *具有不同訪問(wèn)權(quán)限的不同用戶級(jí)別； *敏感問(wèn)題在線幫助； *輕松配置的模板，用于類型的測(cè)量任務(wù)和分析； *圖形窗口可以以多種格式存儲(chǔ)（bmp，jpg...）; *將單個(gè)參數(shù)或選定數(shù)據(jù)字段導(dǎo)出為文本，二進(jìn)制貨其他常用的文件格式（例如QED，Zygo，XYZ，DigitalSurf）以進(jìn)行外部處理； *測(cè)量結(jié)果以二維或三維的參數(shù)或圖形顯示為橫截面； *測(cè)量協(xié)議一目了然地顯示結(jié)果，并且可以進(jìn)行廣泛配置，包括客戶徽標(biāo)。 *常用的程序功能的快捷方式； *各種程序模式允許使用集成的實(shí)時(shí)相機(jī)圖像單獨(dú)顯示校準(zhǔn)和測(cè)量過(guò)程及其參數(shù)； *使用μShape程序文件中的樣本數(shù)據(jù)存儲(chǔ)所有參數(shù)和設(shè)置，包括窗口大小和位置； *定期更新可持續(xù)改進(jìn)，可根據(jù)要求提供軟件服務(wù)； |  |
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附加模塊
對(duì)于擴(kuò)展的測(cè)量任務(wù)和進(jìn)一步的分析，μShape軟件提供了各種各樣的附加模塊，如果需要，可以由用戶添加，其中包括：
*一次測(cè)量多個(gè)孔徑，例如：在拋光磨頭上；
*同時(shí)對(duì)多個(gè)孔徑進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析；
*棱鏡和楔形測(cè)量和分析；光學(xué)設(shè)計(jì)造成的偏差；
*晶圓分析；
*靜態(tài)條紋分析可在不穩(wěn)定的環(huán)境下進(jìn)行測(cè)量；
軟件附加項(xiàng)
Asphere分析模塊
非球面模塊在非球面設(shè)置中使用計(jì)算機(jī)生成的全息圖分析旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的非球面，在球面設(shè)置中分析非球面，可輸入和存儲(chǔ)非球面數(shù)據(jù)，支持多種格式，非球面擬合能夠除去調(diào)整誤差和系統(tǒng)設(shè)置誤差。
Cylinder分析模塊
Cylinder模塊可在cylindrical設(shè)置中分析圓柱形樣品，圓柱形擬合能夠除去調(diào)整誤差。
外部接口模塊
外部接口模塊允許μShape和外部軟件之間進(jìn)行通訊，如 Lab VIEW。
光纖連接模塊
光纖連接附加模塊根據(jù)IEC慣例提供PC（物理接觸）光纖連接器端面分析，一次完成主要參數(shù)的測(cè)量并可選擇顯示“通過(guò)/未通過(guò)”結(jié)果。
同質(zhì)性模塊
在這一模塊中，兩個(gè)影響通過(guò)樣品光路的參數(shù)—同質(zhì)性（折射率變化）和厚度變化能被確定。
橫向拼接模塊
借助外部控制與分析程序μStitch，您的干涉儀可以子孔徑測(cè)量較大的平面或球面樣品，并將它們拼接在一起。
數(shù)字模塊
在這個(gè)模塊中，不同的數(shù)據(jù)圖可通過(guò)數(shù)字計(jì)算分析生成附加結(jié)果圖。暫不可進(jìn)行矩陣操作。
多孔徑分析模塊
該模塊能夠在一個(gè)視場(chǎng)范圍內(nèi)對(duì)未連接的子孔徑測(cè)量和分析，例如測(cè)量固定在拋光磨頭上的部分。
多重統(tǒng)計(jì)分析
當(dāng)樣品規(guī)格規(guī)定不同子區(qū)域的不同限制時(shí)，MultiStat模塊可在一次測(cè)量中完成相關(guān)計(jì)算，并分列出每個(gè)區(qū)域的結(jié)果。
棱體分析模塊
90°直角棱鏡的角誤差與楔角角度可通過(guò)分析角度偏差造成的干涉條紋圖樣測(cè)得。
樣品標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)模塊
樣品標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)能夠考慮附加的樣品誤差，例如：與設(shè)計(jì)相關(guān)的標(biāo)準(zhǔn)誤差參數(shù)。
工具補(bǔ)償模塊
應(yīng)用于μShppe軟件的工具補(bǔ)償模塊能夠補(bǔ)償轉(zhuǎn)臺(tái)的準(zhǔn)直誤差。
晶片模塊
晶片分析允許將矩形區(qū)域內(nèi)尺寸的圖形孔徑進(jìn)一步分類，并通過(guò)算數(shù)平均值表征每個(gè)子區(qū)域。
Torus分析模塊
在Torus軟件的輔助下，附加環(huán)形樣品在toric或spherical設(shè)置中被分析，余下的調(diào)整誤差可通過(guò)環(huán)形擬合消除，適合檢測(cè)隱形眼鏡和晶片模型。
楔形分析模組
楔形分析模組使用待測(cè)樣品后的輔助鏡，可經(jīng)一次測(cè)量確定平面鏡與光學(xué)平板的楔角。
用戶定制模組
TRIOPTICS開(kāi)發(fā)了軟件的干涉測(cè)量功能，并提供可定制程序，計(jì)算特定參數(shù)，依需求顯示和輸出數(shù)據(jù)，您可聯(lián)系我們滿足您的更多測(cè)量需求。
| | μPhase® PLANO UP |
| 樣品類型 | 平面 |
| 樣品尺寸 | 可達(dá)φ100mm |
| 樣品重量(MAX) | 0.5 kg |
| 校準(zhǔn)工具 | 手動(dòng) |
| 測(cè)試范圍 | 不適用 |
升級(jí)和配件
μPhase具有模塊化的系統(tǒng)，其應(yīng)用范圍可通過(guò)升級(jí)軟件與配件進(jìn)行拓展，下列功能都可額外購(gòu)買。
μPhase 500高分辨率
μPhase 500相機(jī)分辨率可被升級(jí)為1000 x 1000像素。該功能可在購(gòu)買時(shí)或之后實(shí)現(xiàn)。
配件
多種測(cè)量鏡頭
μPhase設(shè)備都具有卡口連接功能，可實(shí)現(xiàn)不同系統(tǒng)配置之間快速和簡(jiǎn)便的交換，使干涉儀的應(yīng)用范圍咋購(gòu)買后可持續(xù)擴(kuò)大。
平面、球面參考表面
各種直徑的無(wú)涂層表面或鏡面表面，以實(shí)現(xiàn)對(duì)比度和測(cè)試目標(biāo)適應(yīng)性。
分析
不直接連接μPhase硬件也可以進(jìn)行離線分析和文檔管理。
