等離子清洗與傳統(tǒng)濕法清洗相比有什么優(yōu)勢(shì)
等離子清洗機(jī)已應(yīng)用于各種電子元件的制造,可以確信,沒有等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù),就沒有今日這么發(fā)達(dá)的電子、資訊和通訊產(chǎn)業(yè)。此外,等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù)也應(yīng)用在光學(xué)工業(yè)、機(jī)械與航天工業(yè)、高分子工業(yè)、污染防治工業(yè)和量測(cè)工業(yè)上,而且是產(chǎn)品提升的關(guān)鍵技術(shù),比如說(shuō)光學(xué)元件的鍍膜,復(fù)合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測(cè)器的制造,超微機(jī)械的加工技術(shù)、人工關(guān)節(jié)、骨骼或*的抗摩耗層等皆需等離子技術(shù)的進(jìn)步,才能開發(fā)完成。 等離子技術(shù)是一新興的領(lǐng)域,該領(lǐng)域結(jié)合等離子物理、等離子化學(xué)和氣固相界面的化學(xué)反應(yīng),此為典型的高科技產(chǎn)業(yè),需跨多種領(lǐng)域,包括化工、材料和電機(jī),因此將挑戰(zhàn)性,也充滿機(jī)會(huì),由于半導(dǎo)體和光電材料在未來(lái)得快速成長(zhǎng),此方面應(yīng)用需求將越來(lái)越大。 與傳統(tǒng)使用有機(jī)溶劑的濕法清洗相比,等離子清洗具備以下五大優(yōu)勢(shì):
一、清洗對(duì)象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的,不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序??梢蕴岣哒麄€(gè)工藝流水線的處理效率;
二、等離子清洗使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對(duì)人體的傷害,同時(shí)也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對(duì)象的問題;
等離子清洗與傳統(tǒng)濕法清洗相比有什么優(yōu)勢(shì)
三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑,這樣清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物,因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性;
四、采用無(wú)線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強(qiáng),這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù),因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對(duì)這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好;
五、使用等離子清洗,可以使得清洗效率獲得*的提高。整個(gè)清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成,因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn);