摘要 SPECTRUM 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA 650/GDA 150的成功推出， 意味著以CCD檢測(cè)器為代表技術(shù)的輝光放電光譜儀進(jìn)入了新的高度。

摘要 SPECTRUM 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA 750/GDA 550，是高靈敏度、高性能的光譜儀，可適用于表面和涂鍍層的化學(xué)元素含量分析。

摘要 SPECTRUM 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA Alpha采用新研發(fā)的CCD檢測(cè)器，使得輝光放電光譜儀技術(shù)邁入了一個(gè)全新的時(shí)代。

摘要 成立于1819年，Jobin Yvon公司的總部設(shè)在高科技發(fā)達(dá)的法國(guó)首都――巴黎。在近二百年的發(fā)展中，Jobin Yvon公司始終遵循著創(chuàng)建以來(lái)的一貫宗旨――高品質(zhì)，使公司一直處于世界光柵及光譜儀生產(chǎn)的較地位。

摘要 GDA 150 HR和GDA 650 HR GDOES光譜儀是用于質(zhì)量控制和研究的強(qiáng)大工具，旨在處理全天候工作，同時(shí)保持良好的可維護(hù)性。GDA 150 HR主要用于研究您的導(dǎo)電樣品，在分析性能方面絲毫不遜于其兄弟GDA 650 H

摘要 GDOES光譜儀GDA 550 HR和GDA 750 HR是大的GDOES光譜儀，非常適合研發(fā)任務(wù)。基于模塊化概念，可以設(shè)想多種選項(xiàng)組合，因此可以為您的應(yīng)用實(shí)現(xiàn)配置。GDA 550 HR主要用于研究您的導(dǎo)電樣品。GDA 7

摘要 輝光放電分析（GDA）于1968年出現(xiàn)，初用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學(xué)分析。 這種分析方法不斷地發(fā)展，尤其擅長(zhǎng)于表面和涂層分析。與傳統(tǒng)的激發(fā)技術(shù)相比，輝光放電 技術(shù)的突出優(yōu)點(diǎn)是能夠表層分析樣品的表層。

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摘要 德國(guó)斯派克輝光放電光譜儀初用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學(xué)分析。 這種分析方法不斷地發(fā)展，尤其擅長(zhǎng)于表面和涂層分析。與傳統(tǒng)的激發(fā)技術(shù)相比，輝光放電 技術(shù)的突出優(yōu)點(diǎn)是能夠表層分析樣品的表層。

摘要昆山國(guó)華真空等離子設(shè)備輝光放電特點(diǎn):根據(jù)等離子清洗機(jī)在各種行業(yè)中的應(yīng)用，我們可以發(fā)現(xiàn)等離子清洗機(jī)有很多的優(yōu)點(diǎn)，正是由于它擁有這些優(yōu)點(diǎn)，使得等離子清洗機(jī)設(shè)備在清洗、刻蝕、活化、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合中應(yīng)用十分廣泛，并且通過(guò)它的處理，可以有效的改...

摘要 JOBIN YVON（法國(guó)JY）輝光光譜儀能夠?qū)腆w樣品的（包括導(dǎo)電性及非導(dǎo)電性材料）進(jìn)行表面逐層分析，界面分析及樣品整體成分分析，而且具有這些分析所需的高靈敏度和高的深度分辨率。

摘要輝光放電光譜儀儀器簡(jiǎn)介：在金屬分析領(lǐng)域中，輝光放電分析是濃度分析和表面分析理想的手段。表面處理工藝過(guò)程，如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等，都可以通過(guò)分析被處理材料的表面和近表層區(qū)域?qū)崿F(xiàn)質(zhì)量控制。采用濃度分布分析功能可以精確地測(cè)量涂（鍍）層厚度及化學(xué)成分。 對(duì)于傳統(tǒng)的分析方...

摘要特測(cè)靜電槍NSG435價(jià)格 人體工學(xué)設(shè)計(jì)和高級(jí)功能。手持式NSG 435模擬器設(shè)計(jì)為舒適地坐在操作手中，目前的操作條件不斷顯示和清晰可見(jiàn)。NSG 435的基于微處理器的控制器和多功能鍵盤(pán)為操作員提供即時(shí)訪問(wèn)其全面的內(nèi)置功能。LCD面板連續(xù)顯示運(yùn)行狀態(tài)和所有用戶(hù)選擇的測(cè)...

摘要特測(cè)靜電槍NSG435人體工學(xué)設(shè)計(jì)和高級(jí)功能。手持式NSG 435模擬器設(shè)計(jì)為舒適地坐在操作手中，目前的操作條件不斷顯示和清晰可見(jiàn)。NSG 435的基于微處理器的控制器和多功能鍵盤(pán)為操作員提供即時(shí)訪問(wèn)其全面的內(nèi)置功能。LCD面板連續(xù)顯示運(yùn)行狀態(tài)和所有用戶(hù)選擇的測(cè)試參數(shù)...

摘要 次大氣壓低溫等離子清洗機(jī),次大氣壓輝光放電處理機(jī),次大氣壓低溫等離子表面改性設(shè)備

摘要 次大氣壓低溫等離子清洗機(jī),次大氣壓輝光放電處理機(jī),次大氣壓低溫等離子表面改性設(shè)備

摘要 次大氣壓低溫等離子清洗機(jī),次大氣壓輝光放電處理機(jī),次大氣壓低溫等離子表面改性設(shè)備

摘要 輝光放電光譜儀

摘要光化學(xué)反應(yīng)儀上海秉越品牌低溫光降解反應(yīng)儀主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見(jiàn)光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品，測(cè)定反應(yīng)動(dòng)力學(xué)常數(shù)，測(cè)定量子產(chǎn)率等功能，廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以...

摘要 儀器特點(diǎn)：1、該設(shè)備的發(fā)明，有利于讓?xiě)?yīng)用方法工程師挖掘設(shè)備潛力

摘要 晶體的電光效應(yīng)物理光學(xué) 晶體電光效應(yīng)實(shí)驗(yàn)儀 型號(hào)：LDX-F-JTDG1110 實(shí)驗(yàn)內(nèi)容及相關(guān)科目：　　觀察會(huì)聚偏振光經(jīng)過(guò)LiNbO3晶體后形成的干涉圖形，比較不同電壓條件下的差異，理解單軸晶體與雙軸晶體的區(qū)別。