摘要 核心參數(shù)產(chǎn)地類別進(jìn)口儀器

摘要 SPECTRUMA 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA Alpha采用新研發(fā)的CCD檢測器，使得輝光放電光譜儀技術(shù)邁入了一個全新的時代。

摘要 SPECTRUMA 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA 750/GDA 550，是高靈敏度、高性能的光譜儀，可適用于表面和涂鍍層的化學(xué)元素含量分析。

摘要 SPECTRUMA 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA 650/GDA 150的成功推出， 意味著以CCD檢測器為代表技術(shù)的輝光放電光譜儀進(jìn)入了新的高度。

摘要 核心參數(shù)儀器種類進(jìn)口輝光放電光譜儀

摘要 核心參數(shù)儀器種類進(jìn)口輝光放電光譜儀

摘要日本HORIBA GD-Profiler 2™輝光放電光譜儀GD-Profiler 2™ 可以快速、同時分析所有感興趣的元素，包括氣體元素N、O、H和Cl，是薄膜和厚膜表征和工藝研究的理想工具。GD-Profiler 2™ 配備的射...

摘要簡要描述： GDOES光譜儀GDA 550 HR和GDA 750 HR是*強(qiáng)大的GDOES光譜儀，非常適合研發(fā)任務(wù)?；谀K化概念，可以設(shè)想多種選項組合，因此可以為您的應(yīng)用實現(xiàn)*佳配置。GDA 550 HR主要用于研究您的導(dǎo)電樣品。GDA 750 HR也用于分析不導(dǎo)電...

摘要簡要描述： GDOES光譜儀GDA 550 HR和GDA 750 HR是強(qiáng)大的GDOES光譜儀，非常適合研發(fā)任務(wù)。基于模塊化概念，可以設(shè)想多種選項組合，因此可以為您的應(yīng)用實現(xiàn)佳配置。GDA 550 HR主要用于研究您的導(dǎo)電樣品。GDA 750 HR也用于分析不導(dǎo)電樣品...

摘要簡要描述： GDOES光譜儀GDA 550 HR和GDA 750 HR是強(qiáng)大的GDOES光譜儀，非常適合研發(fā)任務(wù)。基于模塊化概念，可以設(shè)想多種選項組合，因此可以為您的應(yīng)用實現(xiàn)佳配置。GDA 550 HR主要用于研究您的導(dǎo)電樣品。GDA 750 HR也用于分析不導(dǎo)電樣品...

摘要 SPECTRUM 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA Alpha采用新研發(fā)的CCD檢測器，使得輝光放電光譜儀技術(shù)邁入了一個全新的時代。

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 GD-Profiler™ HR輝光放電光譜儀

摘要 德國SPECTRUMA公司于1980年成立，是一家專注于技術(shù)創(chuàng)新和生產(chǎn)的高技術(shù)科學(xué)儀器公司。輝光放電光譜儀可做到： - 對材料表面涂覆過程的質(zhì)量監(jiān)控和各種表面處理工藝的過程監(jiān)測； - 采用深度剖面分析技術(shù)，可以精確地測定涂層厚度和化學(xué)成分。

摘要 德國SPECTRUMA公司于1980年成立，是一家專注于技術(shù)創(chuàng)新和生產(chǎn)的高技術(shù)科學(xué)儀器公司。輝光放電光譜儀可做到： - 對材料表面涂覆過程的質(zhì)量監(jiān)控和各種表面處理工藝的過程監(jiān)測； - 采用深度剖面分析技術(shù)，可以精確地測定涂層厚度和化學(xué)成分。

摘要 現(xiàn)在，大多數(shù)的材料都是多層結(jié)構(gòu)，比如太陽能光伏電池、LED、硬盤、鋰電池電極、鍍層玻璃等

摘要 輝光放電直讀光譜儀（GD-OES）是適用于涂（鍍）層厚度和表面深度組成以及元素成分的*分析技術(shù)。它在熱處理，電鍍，化學(xué)及物理鍍層工藝中有著廣泛的應(yīng)用前景。

摘要 輝光放電直讀光譜儀（GD-OES）是適用于涂（鍍）層厚度和表面深度組成以及元素成分的*分析技術(shù)。它在熱處理，電鍍，化學(xué)及物理鍍層工藝中有著廣泛的應(yīng)用前景。

摘要 輝光放電分析（GDA）于1968年出現(xiàn)，初用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學(xué)分析。 這種分析方法不斷地發(fā)展，尤其擅長于表面和涂層分析。與傳統(tǒng)的激發(fā)技術(shù)相比，輝光放電 技術(shù)的突出優(yōu)點是能夠表層分析樣品的表層。

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 脈沖射頻輝光放電光譜儀—可超快速進(jìn)行薄/厚膜的深度剖析在過去的15年中，HORIBAScientific不斷與*的等離子體鍍層研究組織進(jìn)行跨領(lǐng)域合作，使得HORIBAScientific的輝光放電光譜儀性能得到了大幅度提升

摘要 法國Jobin Yvon GD-Profiler型輝光放電光譜儀是快元素深度分布分析工具。

摘要 SPECTRUM 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA Alpha采用新研發(fā)的CCD檢測器，使得輝光放電光譜儀技術(shù)邁入了一個全新的時代。

摘要 SPECTRUM 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA 750/GDA 550，是高靈敏度、高性能的光譜儀，可適用于表面和涂鍍層的化學(xué)元素含量分析。

摘要 SPECTRUM 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA 650/GDA 150的成功推出， 意味著以CCD檢測器為代表技術(shù)的輝光放電光譜儀進(jìn)入了新的高度。

摘要 GDA750/GDA550是高靈敏度、高性能的光譜儀，可適用于表面和涂鍍層的化學(xué)元素含量分析。多達(dá)79個分析通道，采用PMT檢測器，GDA750/GDA550型輝光放電光譜儀是高分辨率、高靈..

摘要 GDA650/GDA150的成功推出，意味著以CCD檢測器為代表技術(shù)的輝光放電光譜儀進(jìn)入了新的高度。GDA650/GDA150裝備有一代的CCD固態(tài)檢測器，與高分辨率光學(xué)系統(tǒng)匹配。..

摘要 GDAAlpha采用研發(fā)的CCD檢測器，使得輝光放電光譜儀技術(shù)邁入了一個全新的時代。GDAAlpha裝備有一代的CCD固態(tài)檢測器，與高分辨率光學(xué)系統(tǒng)匹配。新一代的CCD檢..

摘要 GD-Profiler™ HR輝光放電光譜儀

摘要 Profiler 2射頻輝光放電光譜儀

摘要 GDOES光譜儀GDA 550 HR和GDA 750 HR是大的GDOES光譜儀，非常適合研發(fā)任務(wù)?；谀K化概念，可以設(shè)想多種選項組合，因此可以為您的應(yīng)用實現(xiàn)配置。GDA 550 HR主要用于研究您的導(dǎo)電樣品。GDA 7

摘要 輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段，可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴(kuò)散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息，從而改善工藝條件等

摘要 解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段，可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴(kuò)散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息，從而改善工藝條件等

摘要 脈沖射頻輝光放電光譜儀—可超快速進(jìn)行薄/厚膜的深度剖析在過去的15年中，HORIBAScientific不斷與*的等離子體鍍層研究組織進(jìn)行跨領(lǐng)域合作，使得HORIBAScientific的輝光放電光譜儀性能得到了大幅度提升

摘要 輝光放電直讀光譜儀（GD-OES）是適用于涂（鍍）層厚度和表面深度組成以及元素成分的*分析技術(shù)。它在熱處理，電鍍，化學(xué)及物理鍍層工藝中有著廣泛的應(yīng)用前景。

摘要 輝光放電直讀光譜儀（GD-OES）是適用于涂（鍍）層厚度和表面深度組成以及元素成分的*分析技術(shù)。它在熱處理，電鍍，化學(xué)及物理鍍層工藝中有著廣泛的應(yīng)用前景。