SPECTRUM 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA Alpha裝備有新一代的CCD固態(tài)檢測(cè)器，與高分辨率光學(xué)系統(tǒng)完美匹配。新一代的CCD檢測(cè)器不但具備傳統(tǒng)光電倍增管的低噪聲、寬動(dòng)態(tài)范圍的特點(diǎn)，而且還具備優(yōu)異的分辨率和全譜數(shù)據(jù)采集能力，特別適合同時(shí)需要高精度檢測(cè)和分析靈活性的用戶。
 
   高分辨率CCD光學(xué)系統(tǒng)使得GDA Alpha具備無(wú)限的擴(kuò)展能力，允許使用者在任何分析方法下任意擴(kuò)展和增加任何分析通道。

   這種靈活性允許進(jìn)行快速的基體總量和涂鍍層分析，所有元素，包括O，N，C等非金屬元素均可進(jìn)行定量分析。

   在含量-深度測(cè)量中，分析深度可達(dá)200um以上， 層分辨率可達(dá)納米級(jí)。GDA Alpha也可進(jìn)行基體總量分析，尤其對(duì)于復(fù)雜基體，具備優(yōu)異的線性校準(zhǔn)曲線。檢出限可達(dá)ppm級(jí)。

   GDA Alpha裝備有新一代的輝光激發(fā)光源，濺射直徑從1mm至8mm，可適應(yīng)多種類型的樣品分析，方便快捷。

應(yīng)用
熱處理
-準(zhǔn)確測(cè)量所關(guān)心元素的含量-深度分布，定性、定量檢測(cè)表面污染物、夾雜物和物相比例
-涂鍍層
可獲得涂鍍層完整的化學(xué)組分信息、層厚度，元素含量-深度分布。
-硬質(zhì)合金層
快速分析硬質(zhì)合金層和熱處理工件的滲層化學(xué)組分
-化學(xué)組分
準(zhǔn)確測(cè)量化學(xué)元素含量
高精度、高重復(fù)性檢測(cè)
快速分析：<60s
可分析從H至U的所有元素， 檢測(cè)范圍從ppm至*

輝光放電光譜儀主要應(yīng)用領(lǐng)域
汽車制造及零部件
金屬加工、制造
冶金
航空、航天
表面處理：化學(xué)氣相沉積、物理氣相沉積等
電鍍
光伏電池、鋰電
科學(xué)研究

激發(fā)光源
同一激發(fā)光源允許安裝直徑為1mm至8mm電極，從而保證穩(wěn)定性和重復(fù)性
-高效的樣品直接冷卻。可直接分析金屬薄膜、熱處理層。如可直接分析50um的不銹鋼薄膜
-優(yōu)化的氬氣流量控制，可以同時(shí)實(shí)現(xiàn)低檢出限和高深度分辨率
-專門設(shè)計(jì)的自動(dòng)清掃裝置，保證了高精度、高重復(fù)性測(cè)量
-大樣品分析厚度45mm，小厚度50um
-*程序自動(dòng)控制的直流光源(DC)，電壓可達(dá)1500V，電流250mA
-選裝件：自動(dòng)進(jìn)樣器，程序控制100位

光學(xué)系統(tǒng)
高性能CCD光學(xué)系統(tǒng)，光譜范圍120--800nm
-光譜分辨率優(yōu)于20pm(FWHM)
-Paschen-Runge光學(xué)系統(tǒng)， 焦距400mm
-全息原刻光柵，2400線/mm
-光室恒溫控制，儀器穩(wěn)定性優(yōu)異
-可無(wú)限制的配置分析通道，所有元素同時(shí)檢測(cè)
-方便易操作的透鏡清潔，可立即進(jìn)行分析
-CCD檢測(cè)器的靈敏度可自動(dòng)調(diào)節(jié)

真空系統(tǒng)
-全不銹鋼殼體，可充分保證痕量元素的分析，尤其對(duì)于N元素分析
-光室真空采用二級(jí)旋轉(zhuǎn)葉片真空泵，噪音<50dB
-單泵設(shè)計(jì)，同時(shí)運(yùn)用于光源和光室
-特殊的旋片真空泵，可大限度的減少C，H元素的污染
-內(nèi)置安全閥設(shè)計(jì)，以避免突然斷電對(duì)旋轉(zhuǎn)葉片泵的損害

WinG DOES軟件
-WindowsXP或更高平臺(tái)運(yùn)行
-使用界面簡(jiǎn)單、易懂，分級(jí)管理和操作
-功能強(qiáng)大
-方法建立簡(jiǎn)便，在線指導(dǎo)
-校準(zhǔn)樣品管理，*樣品添加
-多種校準(zhǔn)模式
-基體總量元素測(cè)量校準(zhǔn)
-QDP定量分析校準(zhǔn)
-用戶定制測(cè)量報(bào)告模式
-數(shù)據(jù)處理和再處理功能
-多種格式數(shù)據(jù)輸出
-分析過(guò)程中界面語(yǔ)言切換