SPECTRUM 高分辨率輝光放電光譜儀GDA 650/GDA 150裝備有新一代的CCD固態(tài)檢測器，與高分辨率光學(xué)系統(tǒng)匹配。新一代的CCD檢測器不但具備傳統(tǒng)光電倍增管的低噪聲、寬動態(tài)范圍的特點(diǎn)，而且還具備優(yōu)異的分辨力和全譜數(shù)據(jù)采集能力，特別適合同時需要高精度檢測和分析靈活性的用戶。
高分辨率CCD光學(xué)系統(tǒng)使得GDA 650/GDA 150具備無限的擴(kuò)展能力， 允許使用者在任何分析方法下任意擴(kuò)展和增加任何分析通道。
這種靈活性允許進(jìn)行快速的基體總量和涂鍍層分析，所有元素，包括O，N，C等非金屬元素均可進(jìn)行定量分析。
在含量-深度測量中，分析深度可達(dá)200um以上， 層分辨率可達(dá)納米級。GDA 650/GDA 150也可進(jìn)行基體總量分析，尤其對于復(fù)雜基體，具備優(yōu)異的線性校準(zhǔn)曲線。檢出限可達(dá)ppm級。
GDA 650/GDA 150裝備有新一代的輝光激發(fā)光源，濺射直徑從1mm至8mm。采用通用樣品夾具(USU)，也可進(jìn)行小樣品和異形樣品的分析，無需更換特殊電極。
GDA 650也可選裝配置脈沖式射頻光源(選裝件)，用于分析非導(dǎo)體材料。
采用脈沖式射頻光源后，可分析非導(dǎo)體、熱敏感樣品，如：陶瓷、玻璃、有機(jī)涂層、有機(jī)薄膜。還可選裝配置特殊樣品轉(zhuǎn)移室(選裝件)，用于分析極薄的薄膜和在空氣中易氧化的薄膜。
激發(fā)光源
同一激發(fā)光源允許安裝直徑為1mm至8mm電極，從而保證穩(wěn)定性和重復(fù)性
-高效的樣品直接冷卻?？芍苯臃治鰺崦舾袠悠?、極薄的金屬薄膜和有機(jī)薄膜。如可直接分析50um的不銹鋼薄膜
-優(yōu)化的氬氣流量控制，可以同時實(shí)現(xiàn)低檢出限和高深度分辨率
-專門設(shè)計的自動清掃裝置，保證了高精度、高重復(fù)性測量樣品分析厚度45mm，最小厚度50um
-程序自動控制的直流光源(DC)，電壓可高達(dá)1500V，電流250mA
-程序自動控制的射頻光源(RF)，功率150W，電壓、電流自動監(jiān)控，實(shí)時等離子自動調(diào)節(jié)、脈沖工作模式(選裝件、僅GDA 650有效)
-選裝件：自動進(jìn)樣器，程序控制100位
光學(xué)系統(tǒng)
高性能CCD光學(xué)系統(tǒng)，光譜范圍120--800nm
-光譜分辨率優(yōu)于20pm(FWHM)
-Paschen-Runge光學(xué)系統(tǒng)， 焦距400mm
-全息原刻光柵，2400線/mm
-光室恒溫控制，儀器穩(wěn)定性優(yōu)異
-可無限制的配置分析通道，所有元素同時檢測
-方便易操作的透鏡清潔，可立即進(jìn)行分析
-CCD檢測器的靈敏度可自動調(diào)節(jié)
真空系統(tǒng)
-全不銹鋼殼體，可充分保證痕量元素的分析，尤其對于N元素分析
-光室真空采用二級旋轉(zhuǎn)葉片真空泵，噪音<50dB
-單泵設(shè)計，同時運(yùn)用于光源和光室
-特殊的旋片真空泵，可限度的減少C，H元素的污染
-內(nèi)置安全閥設(shè)計，以避免突然斷電對旋轉(zhuǎn)葉片泵的損害
-選裝件：渦輪分子泵
-選裝件：旋轉(zhuǎn)葉片真空泵可用無油真空泵替代
WinG DOES軟件
-WindowsXP或更高平臺運(yùn)行
-使用界面簡單、易懂，分級管理和操作
-功能強(qiáng)大
-方法建立簡便，在線指導(dǎo)
-校準(zhǔn)樣品管理，樣品添加
-多種校準(zhǔn)模式
-基體總量元素測量校準(zhǔn)
-QDP定量分析校準(zhǔn)
-用戶定制測量報告模式
-數(shù)據(jù)處理和再處理功能
-多種格式數(shù)據(jù)輸出
-分析過程中界面語言切換
應(yīng)用
-熱處理
準(zhǔn)確測量所關(guān)心元素的含量-深度分布，定性、定量檢測表面污染物、夾雜物和物相比例
-涂鍍層
可獲得涂鍍層完整的化學(xué)組分信息、層厚度，元素含量-深度分布。非導(dǎo)體涂鍍層，如：油漆、釉等可采用RF光源分析
-硬質(zhì)合金層
快速分析硬質(zhì)合金層和熱處理工件的滲層化學(xué)組分
-陶瓷
采用RF光源可準(zhǔn)確可靠的測量
-化學(xué)組分
準(zhǔn)確測量化學(xué)元素含量
高精度、高重復(fù)性檢測
快速分析：<60s
可分析從H至U的所有元素， 檢測范圍從ppm至99%
-太陽能電池薄膜
檢測太陽能光伏電池薄膜中化學(xué)元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se，采用RF光源可準(zhǔn)確可靠的測量
輝光放電光譜儀主要應(yīng)用領(lǐng)域
-汽車制造及零部件
-金屬加工、制造
-冶金
-航空、航天
-電子工業(yè)
-玻璃、陶瓷
-表面處理：化學(xué)氣相沉積、物理氣相沉積等
-電鍍
-光伏電池、鋰電
-科學(xué)研究
SPECTRUM 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA 650/GDA 150規(guī)格 | |
電源 | 230V/50Hz/16A |
工作氣體 | >99.999%含量-深度測試和H，N，O檢測 |
>99.995%基體檢測 | |
氬氣消耗 | 0.05L/min， 待機(jī)狀態(tài) |
~0.2L/min， 測量狀態(tài) | |
工作環(huán)境溫度 | 15℃to28℃ |
相對濕度 | 20%to80% |
外觀尺寸 | 1250mmx1440mmx650mm |
重量 | 約210kg |
