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德國斯派克輝光放電光譜儀 型號：GDA-750

輝光放電分析（GDA）于1968年出現(xiàn)，初用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學(xué)分析。

這種分析方法不斷地發(fā)展，尤其擅長于表面和涂層分析。與傳統(tǒng)的激發(fā)技術(shù)相比，輝光放電

技術(shù)的突出優(yōu)點是能夠表層分析樣品的表層。

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• 德國斯派克輝光放電光譜儀
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適用于質(zhì)量控制和材料研究

在金屬分析領(lǐng)域中，輝光放電分析是濃度分析和表面分析理想的手段。

表面處理工藝過程，如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等，都可以通過分析被處理材料的表面和

近表層區(qū)域?qū)崿F(xiàn)質(zhì)量控制。

采用濃度分布分析功能可以精確地測量涂（鍍）層厚度及化學(xué)成分。

對于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料分析問題，輝光放電光譜技術(shù)可以作為優(yōu)先選用的方

法。

采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以分析非導(dǎo)體材料和涂

層，如玻璃，陶瓷，釉質(zhì)和油漆涂層。

GDA750可以配備60個以上的分析通道，并且能充分地滿足高分辨率和高精度的分析要求。涂

（鍍）層的深度可測量至200um

表面分析和獲得的分辨率達(dá)1個原子層。

分析軟件具有強(qiáng)大功能并且靈活易用；

化學(xué)成分可以與其他特性，如被分析區(qū)域中的密度和質(zhì)量分布同時測定。

通過比較涂（鍍）層工藝過程（CVD，PVD）前后的表面特性，確保生產(chǎn)工藝過程化和

地避免廢品浪費。

GDA750也可用于塊狀樣品的分析（如金屬合金的化學(xué)成分），為復(fù)雜基體材料的分析提供具

有良好線性的工作曲線。