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SE200BA-M300橢偏儀測量250nm到1000nm薄膜材料厚度分析設(shè)備

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2024-02-13
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量7
  • 人氣值19
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SE200BA-M300橢偏儀測量250nm到1000nm薄膜材料厚度分析設(shè)備產(chǎn)品簡介橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來進行薄膜性質(zhì)表征的儀器,主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)
SE200BA-M300橢偏儀測量250nm到1000nm薄膜材料厚度分析設(shè)備 產(chǎn)品詳情
SE200BA-M300橢偏儀測量250nm到1000nm薄膜材料厚度分析設(shè)備

產(chǎn)品簡介

橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來進行薄膜性質(zhì)表征的儀器,主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)。橢偏儀的主要原理是將自然光(紫外光、可見光以及紅外光)變成偏振光后通過一定角度入射到樣品上,偏振光進入樣品介質(zhì)后會反射回到橢偏儀檢偏器內(nèi),由于樣品介質(zhì)會對偏振光的偏振態(tài)發(fā)生改變,而這種改變會被橢偏儀測量,橢偏儀就是利用這個介質(zhì)對偏振光性質(zhì)改變的原理來表征介質(zhì)的性質(zhì)的。

SE200BA-M300型號實現(xiàn)250nm到1000 nm超長波段的探測,可實現(xiàn)對材料紫外、可見和紅外波段的全覆蓋測量研究,同時可搭配自動平臺掃描、自動變角、微光斑探測以及平臺加熱等功能滿足不同應(yīng)用需求。

設(shè)備配置

型號:SE200BM-M300

探測器:陣列探測器

光源:高功率的DUV-Vis-NIR復合光源

測量角度變化:手動調(diào)節(jié)

平臺:ρ-θ配置的自動成像

軟件:TFProbe 3.2版本的軟件

計算機:Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器

電源:110–240V AC/50-60Hz,6A

保修:一年的整機及零備件保修

波長范圍:250nm到1000 nm

波長分辨率: 1nm

光斑尺寸:1mm至5mm可變

入射角范圍:0到90度

入射角變化分辨率:5度間隔

樣品尺寸:zui大直徑為300mm

基板尺寸:zui多可至20毫米厚

測量厚度范圍*:0nm〜10μm

測量時間:約1/位置點

精度*:優(yōu)于0.25%

重復性誤差*:小于1 Ǻ

參數(shù)規(guī)格

波長范圍:250nm 到 1000 nm
波長分辨率: 1nm
光斑尺寸:1mm 至 5mm 可變
入射角范圍:10 到 90 度
入射角變化分辨率:0.01 度
樣品尺寸:zui大直徑為 300mm
基板尺寸:zui多可至 20 毫米厚

產(chǎn)品相冊

關(guān)鍵詞:橢偏儀 顯示器
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