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考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

參考價
300000-1920000
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時間2023-03-14
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)上海市
  • 實名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值3720
產(chǎn)品標(biāo)簽

離子源射頻離子源鍍膜

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位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會社獨資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國Pfeiffer原廠測試設(shè)備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識,并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測設(shè)備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。另外公司還代理美國Brooks  CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機(jī)和美國KRI 離子源,HVA 高真空閥門。公司一直堅持品質(zhì)*、信譽*的原則,為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務(wù)。到目前為止已先后通過了美國UL安全認(rèn)證、ISO9001-2000質(zhì)量體系認(rèn)證、ISO14001-1996環(huán)境體系認(rèn)證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本,不斷開拓進(jìn)取的精神,為滿足客戶的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團(tuán)化發(fā)展。

為將國外的高科技產(chǎn)品與中國經(jīng)濟(jì)和社會的飛速發(fā)展緊密結(jié)合,為促進(jìn)國內(nèi).貿(mào)易的快速發(fā)展,伯東企業(yè)(上海)有限公司,以高科技推動現(xiàn)代化,以高質(zhì)量服務(wù)全中國, 堅持不懈,奮斗不息。伯東公司是一家專業(yè)代理公司,代理上公司的 半導(dǎo)體設(shè)備.接插件.電子器件.精密儀器等,公司秉承 改革.創(chuàng)新.求真.發(fā)展的基本原則, 精心構(gòu)建誠信、互動、共贏的價值體系, 為所有的客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品, 同時,提供全伯東集團(tuán)網(wǎng)絡(luò)支持下的較早.Z快的信息與Z及時周到的服務(wù),伯東公司愿意與世界各地的客戶聯(lián)手合作,共建一個誠信.發(fā)展.共同進(jìn)步的良好環(huán)境.

 

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立方氮化硼(cBN)由于具有高超的硬度/ 好的化學(xué)惰性/ 較好的熱穩(wěn)定性/ 高的熱導(dǎo)率/ 在寬波長范圍內(nèi)(約從 200nm 開始) 有很好的透光性/ 可摻雜為 n 型和 p 型半導(dǎo)體等特點, 在切削工具/ 耐磨材料/ 光學(xué)元件表面涂層/ 高溫/ 高頻/ 大功率/ 抗輻射電子器件/ 電路熱沉材料和絕緣涂覆層等方面具有很大的應(yīng)用潛力.
考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜 產(chǎn)品詳情

立方氮化硼(cBN)由于具有高超的硬度/ 好的化學(xué)惰性/ 較好的熱穩(wěn)定性/ 高的熱導(dǎo)率/ 在寬波長范圍內(nèi)(約從 200nm 開始) 有很好的透光性/ 可摻雜為 n 型和 p 型半導(dǎo)體等特點, 在切削工具/ 耐磨材料/ 光學(xué)元件表面涂層/ 高溫/ 高頻/ 大功率/ 抗輻射電子器件/ 電路熱沉材料和絕緣涂覆層等方面具有很大的應(yīng)用潛力.

 

在對立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金屬研究所采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 輔助濺射沉積立方氮化硼 (cBN) 薄膜.

 

伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術(shù)參數(shù):

型號

RFICP140

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>600 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

14 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

5-30 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

24.6 cm

直徑

24.6 cm

中和器

LFN 2000

  

該實驗中, 采用的是射頻濺射沉積的方法, 沉積基片為硅片, 熱壓的 hBN 作為靶材, 濺射氣體為 Ar 和N2 的混合氣體.

 

磁控濺射是物理氣相沉積技術(shù)中一種手段比較豐富的方法, 可以通過控制調(diào)節(jié)鍍膜參數(shù), 得到更加致密, 均勻, 結(jié)合力出色的膜層, 而且磁控濺射屬于干法鍍膜, 不存在電鍍化學(xué)鍍中的鍍液腐蝕基體和廢液污染問題, 從環(huán)境保護(hù)的角度來看, 磁控濺射較電鍍化學(xué)鍍更加綠色環(huán)保.

 

實驗結(jié)果:

采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 輔助濺射沉積立方氮化硼 (cBN) 薄膜時, 具有沉積的膜層顆粒尺寸小/ 薄膜中立方含量高/ 工藝可控性好等特點.

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口品牌的代理商.

 

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上海伯東: 羅先生


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