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上海伯東代理 KRI 射頻離子源 RFICP 100

參考價訂貨量

1140000

≥1臺

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時間2023-01-11
  • 廠商性質代理商
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產品數量200
  • 人氣值3453
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位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會社獨資設立的外商投資企業(yè),公司注冊資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管);檢漏儀,質譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術力量雄厚,保證 100 % 擁有標準的德國Pfeiffer原廠測試設備及調整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調試、維修、拆機、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務意識,并獲得原廠*維修資質證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設備對維修后的產品做*性能測試。另外公司還代理美國Brooks  CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源,HVA 高真空閥門。公司一直堅持品質*、信譽*的原則,為廣大客戶提供了高品質的產品以及良好的售后服務。到目前為止已先后通過了美國UL安全認證、ISO9001-2000質量體系認證、ISO14001-1996環(huán)境體系認證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本,不斷開拓進取的精神,為滿足客戶的需求努力向專業(yè)化、優(yōu)質化、集團化發(fā)展。

為將國外的高科技產品與中國經濟和社會的飛速發(fā)展緊密結合,為促進國內.貿易的快速發(fā)展,伯東企業(yè)(上海)有限公司,以高科技推動現代化,以高質量服務全中國, 堅持不懈,奮斗不息。伯東公司是一家專業(yè)代理公司,代理上公司的 半導體設備.接插件.電子器件.精密儀器等,公司秉承 改革.創(chuàng)新.求真.發(fā)展的基本原則, 精心構建誠信、互動、共贏的價值體系, 為所有的客戶提供優(yōu)質的產品, 同時,提供全伯東集團網絡支持下的較早.Z快的信息與Z及時周到的服務,伯東公司愿意與世界各地的客戶聯(lián)手合作,共建一個誠信.發(fā)展.共同進步的良好環(huán)境.

 

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產地進口 加工定制
上海伯東代理美國* KRI 考夫曼型離子源 RFICP 100 緊湊設計, 適用于離子濺鍍和離子蝕刻. 小尺寸設計但是可以輸出 >400 mA 離子流. 考夫曼型離子源 RFICP 100 源直徑19cm 安裝在10”CF 法蘭, 在離子濺鍍時, 離子源配有離子光學元件
上海伯東代理 KRI 射頻離子源 RFICP 100 產品詳情

價格電議

KRI 射頻離子源 RFICP 100

上海伯東代理美國* KRI 考夫曼型

離子源 RFICP 100 緊湊設計, 適用于離子濺鍍和離子蝕刻. 小尺寸設計但是可以輸出 >400 mA 離子流. 考夫曼型離子源 RFICP 100 源直徑19cm 安裝在10”CF 法蘭, 在離子濺鍍時, 離子源配有離子光學元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實現 薄膜特性. 在離子刻蝕工藝中, 離子源與離子光學配合, 蝕刻更均勻. 標準配置下 RFICP 100 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 400 mA.
射頻離子源 RFICP 100
KRI 射頻離子源 RFICP 100 技術參數

型號

RFICP 100

供電

RF 射頻感應耦合

- 陰極燈絲

-

- 射頻功率

1 KW

電子束

OptiBeam™

- 柵極


-柵極直徑

10 或 12 cm

中和器

LFN 2000

電源控制

RFICP 1510-2-10-LFNA

配置

-

- 陰極中和器

LFN2000 or MHC1000 or RFN

- 安裝

移動或快速法蘭

- 高度

9.25'

- 直徑

7.52'

- 離子束

聚焦

平行

散設

-加工材料

金屬

電介質

半導體

-工藝氣體

惰性

活性

混合

-安裝距離

6-18”

- 自動控制

控制4種氣體

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

KRI 考夫曼離子源 RFICP 100 應用領域

預清洗

表面改性

輔助鍍膜(光學鍍膜) IBAD,

濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

離子濺射沉積和多層結構 IBSD

離子蝕刻 IBE



客戶案例: 超高真空離子刻蝕機 IBE, 真空度 5E-10 torr, 系統(tǒng)配置如下
美國 KRI 射頻離子源 RFICP 100
美國 HVA 真空閘閥
德國 Pfeiffer 分子泵 Hipace 2300
射頻離子源
射頻離子源 RFICP 100

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產

考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發(fā)展已取得多項. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理.

若您需要進一步了解詳細信息, 歡迎聯(lián)絡上海伯東羅先生



關鍵詞:標準
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