設備：生產型等離子清洗機 TETRA 30
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產品功能：
清洗：工藝部件的表面通過離子束的物理轟擊而被清洗，也可與特定氣體發(fā)生化學反應從而被清洗，清洗掉的工藝污染物轉化為氣相被排出。 如：去除有機污染物，去除納米級微粒，去除氧化層
活化：工藝部件表面通過氧氣或空氣處理后，會在表面形成氧原子團，這樣能使部件表面親水性和表面張力提高，能使涂料和粘接劑更好的附著于上，提高其的粘合力和附著力。如：PDMS鍵合，粘接前的預處理，涂裝前的預處理，印刷前的預處理。
蝕刻：工藝部件表面通過特定氣體達到精確濺射，表面材料被剝離，轉變成氣相被排出，濺射后的材料表面積增大并更易濕潤，也使材料表面更粗糙化。通過改變工藝參數可使材料表面蝕刻出一定的形狀。如：硅蝕刻，PTFE/PFA/FEP蝕刻，光刻膠去除。
涂層：使工藝部件表面發(fā)生等離子聚合反應，前驅單體導入等離子真空腔室后使其電離并沉積至材料表面，隨即發(fā)生聚合反應，形成聚合物層。疏水層，親水層，保護/阻隔層，干潤滑層，疏油層
| 主要技術參數 | 1. 便捷的PC觸摸屏控制，操作系統(tǒng)為Windows CE5.0(ARM) 2. *根據工藝要求不同，可設定功率、壓強、氣體流量與時間等參數 3. 雙路工作氣體，氣體流量通過數字式流量計（MFC）控制 4. *反應艙為不銹鋼，寬305mm ×深625 mm×高300 mm ，容積約為50L 5. 高周波電流頻率13.56MHz功率0~300W 6. 反射波自動調節(jié)，無須手工調節(jié) 7. 電極材質為鋁/不銹鋼 8. 運行模式為手動/自動 9. *可存儲多套工藝程序，圖表實時顯示工藝過程 10. 真空泵的排氣能力為16m3/Hour，配有強制進氣閥 11. *配有壓力傳感器，可根據工藝要求設定壓力值 12. 電源電壓：400V /16A |
選配：
控制系統(tǒng)： 全自動PCCE控制/全自動PC控制。
氣體：
多路氣體
腔體：
矩形不銹鋼，帶鉸鏈的門（約寬 305 mm，高 300 mm x 深 370 mm 或 625 mm）矩形鋁，帶鉸鏈的門（約寬 305 mm，高 300 mm x 深 370 mm 或 625 mm）
托盤：
石英玻璃舟皿/粉末轉鼓/散裝件轉鼓/鋁板/不銹鋼板/硼硅玻璃/石英/水冷型
電極：
單層或多層/帶氣體噴淋裝置的 RIE 電極
壓力測量：
Pirani/電容式壓力計（適用于腐蝕性氣體版本）
發(fā)生器：
80 kHz：0- 1000 W/3000 W 13.56 MHz： 0 - 300 W/600 W 2.45 GHz： 0 - 600 W/1200 W
其他：
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