宽光谱穆勒矩阵椭偏仪ME-L型
宽光谱穆勒矩阵椭偏仪ME-L型概述
是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪，凝聚了颐光科研团队在椭偏技术多年的投入，其采用行业zui前沿的创新技术，包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。 ——————————————————————————
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产品特点
采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-1700nm)；
可实现穆勒矩阵数据处理，测量信息量更大，测量速度快、数据更加精准；
基于双旋转补偿器配置，可一次测量获得全部穆勒矩阵的16个元素，相对传统光谱椭偏仪可获取更加丰富全面的测量信息；
技术参数：
基本功能
一次性获得全穆勒矩阵、椭偏参数、反射率/透射率、退偏度
光谱范围
193-1700nm
光谱分辨率
0.5nm
测量时间
1-8s
入射角范围
45-90°
微光斑尺寸
200μm
重复性测量精度，100nm SiO2硅片（30次测量，1σ）
0.002nm
精度（直通测量空气）
椭偏参数：Ψ= 45±0.05°，Δ= 0±0.1°
穆勒矩阵：对角元素m=1±0.005，非对角元素m=0±0.005
支持样件zui大尺寸
8寸
样品台调节
高度：0-20mm（自动）
俯仰：±2°
XY：±12.5mm
Rz：0-360°（粗调）
±5°（精调，分辨率：0.05°）
软件
多语言界面切换
多达数千种的光学材料常数数据库，并支持用户自定义光学材料库
提供多层各向同性光学薄膜建模仿真与分析功能
提供多层各向异性光学薄膜建模仿真与分析功能
提供多层周期性光栅结构建模仿真与分析功能
仅供参考，详细参数信息请厂家确认
