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| 膜厚儀，分為磁感應(yīng)膜厚儀，電渦流膜厚儀，熒光X射線膜厚儀。 膜厚儀簡單地說螢光X射線裝置（XRF）和X射線衍射裝置（XRD）有何不同，螢光X射線裝置（XRF）能得到某物質(zhì)中的元素信息（物質(zhì)構(gòu)成，組成和鍍層厚度），X射線衍射裝置（XRD）能得到某物質(zhì)中的結(jié)晶信息。 膜厚儀具體地說，比如用不同的裝置測定食鹽yanghuana（NaCl） 時，從螢光X射線裝置得到的信息為此物質(zhì)由鈉（Na）和氯（Cl）構(gòu)成，而從X射線衍射裝置得到的信息為此物質(zhì)由yanghuana（NaCl）的結(jié)晶構(gòu)成。單純地看也許會認為能知道結(jié)晶狀態(tài)的X射線衍射裝置（XRD為好，但當測定含多種化合物的物質(zhì)時只用衍射裝置（XRD）就很難判定，必須先用螢光X射線裝置（XRF）得到元素信息后才能進行定性。 膜厚儀也叫X射線測厚儀，它的原理是物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài)，此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來，而此時是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來。熒光X射線鍍層厚度測量儀或成分分析儀的原理就是測量這被釋放出來的熒光的能量及強度，來進行定性和定量分析。 膜厚儀分為手持式和臺式二種，手持式又有磁感應(yīng)鍍層測厚儀，電渦流鍍層測厚儀，熒光X射線儀鍍層測厚儀。手持式的磁感應(yīng)原理時，利用從測頭經(jīng)過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測定覆層厚度。也可以測定與之對應(yīng)的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。 |
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