詳細摘要： 日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分...
產(chǎn)品型號：所在地：珠海市更新時間：2025-04-01 在線留言深圳市汐品科技有限公司
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詳細摘要： 日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！日立高新離子研磨裝置...
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詳細摘要： 日立ArBlade 5000離子研磨系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)高產(chǎn)量，并制備廣域橫截面樣品?！ ‰x子研磨系統(tǒng)使用通過在表面上照射氬離子束引起的濺射效應(yīng)來拋光樣品的表面。樣品預(yù)...
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