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Waters MALDI SYNAPT G2-Si 基質輔助激光解吸電離飛行時間質譜

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更新時間:2024-11-19 12:17:21瀏覽次數(shù):19次

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產品簡介

核心參數(shù)靈敏度0質量精確度0分辨率0

詳細介紹

核心參數(shù)

  • 靈敏度0

  • 質量精確度0

  • 分辨率0


產品介紹

MALDI SYNAPT G2-Si是功能強大的通用型MS平臺。它是結合復雜樣品分析中多維分離的手段,其功能涵蓋成像、生物樣品研究和化工材料鑒定。


  • 高效、準確的質量MALDI MS/MS

  • 利用T-Wave IMS實現(xiàn)的離子化后分離

  • 高清晰成像(HDI)MALDI工作流程

  • 多種實驗類型選擇

  • 的UPLC/MS/MS性能


高性能精確質量數(shù)MALDI MS/MS

MALDI SYNAPT G2-Si 質譜系統(tǒng)適用于成像、化工材料鑒定、蛋白質組學和制藥領域,可讓您得到的結果。MALDI SYNAPT G2-Si由一臺脈沖頻率為2.5KHz的固態(tài)激光器驅動,可實現(xiàn)分析過程中光譜采集速率的。光斑大小可根據(jù)試驗需要進行配置,不論是定性分析中靈敏度和速度的優(yōu)化還是成像研究中測定空間分辨率下化合物的空間分布均適用。


由于Tof分析儀的正交幾何結構,離子源在質譜分析中實現(xiàn)“去耦合"。因此,與軸向MALDI-Tof或Tof/Tof儀器不同,該設備能夠確保在廣泛的質量范圍內,對于MS和MS/MS模式都能獲得高分辨率和準確質量數(shù)。此外,SYNAPT非常適合處理絕緣樣品,例如石蠟包埋型組織切片或載玻片等。


利用T-Wave IMS實現(xiàn)的離子化后分離

某些情況下,色譜和質量數(shù)分辨率還不能滿足要求。借助高效T-Wave離子淌度技術,您可以在分子大小和形狀的基礎上獲得另一個分離維度。利用分子碰撞截面(CCS)特性這一項的功能,可以提供的選擇性、特異性、靈敏度和結構分析。其優(yōu)點還包括同分異構體分離、消除干擾、生成更干凈的譜圖,以及借助CCS測量方法更準確地鑒定化合物。


高分辨率成像(HDI)MALDI工作流程

在同一個精簡的成像工作流程中,MALDI SYNAPT G2-Si HDMS融合了T-Wave IMS和QuanTof技術,以提供的選擇性、清晰度和可靠性。


HDI MALDI解決方案提供了一系列且強大的多靶向(IMS/MS/MS)和無靶向(IMS/MSE)工作流程,包括以圖像為中心的方法設置、數(shù)據(jù)處理和圖像生成。綜合相關(基于與空間位置漂移時間相關的碎片離子)與統(tǒng)計工具(例如PCA、OPLS-DA、S-plots、聚類分析)相結合,提供了更智能、更可靠的成像分析。


在SYNAPT上可以使用全面的UPLC/MS/MS功能,同時能夠在同一個平臺上對生物液體或激光切割組織切片進行高效定量和定性分析。


通用型實驗選件

借助高解析度四極桿和雙碰撞室TriWave裝置,SYNAPT提供了高質量CID碎裂功能,可用于小分子和脂類以及糖和聚合物等的MS/MS鑒定。例如,與傳統(tǒng)MS3技術相比,時間對齊平行碎裂可提供的數(shù)據(jù)質量和占空比。 沃特世的離子源結構可與多種直接分析技術相結合,例如ASAP、DESI、DART、LAESI和LDTD。它們可快速互換,在幾分鐘內即可使用。MALDI SYNAPT G2-Si平臺還包括ESI、APCI、APPI電離方式的選項,并且可以兼容UPLC、nanoUPLC、HDX Automation、APGC、APC或UPC2實現(xiàn)分離。


的UPLC/MS/MS性能

在與MALDI相同的MS平臺上,SYNAPT同時提供UPLC/MS/MS功能的選擇。


將StepWave和UPLC分離與定量飛行時間(QuanTof)技術相結合,實現(xiàn)的峰容量和數(shù)據(jù)質量。StepWave是目前和的離子源,具有“主動"選擇離子和“被動"防止中性污染物的功能。


與其他所有質譜分析器不同,QuanTof能夠提供高質量數(shù)高分辨率、精確質量數(shù)和準確的同位素比例、寬的動態(tài)范圍(譜圖內和定量)和m/z范圍,并且都可以在的采集速率實現(xiàn),即便是對于高基質負荷的樣品也是如此。



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