標(biāo)準(zhǔn)型硅片檢測(cè)顯微鏡 TGB-500詳細(xì)技術(shù)參數(shù)
一、儀器用途
TGB-500 透反射式硅片檢測(cè)顯微鏡主要用于太陽(yáng)能電池硅片的觀察.它能生產(chǎn)高清晰的圖像,立體感較強(qiáng)，成像較清晰和寬闊，又具有長(zhǎng)工作距離，并具有較大的視場(chǎng)范圍和相應(yīng)的放大倍數(shù),配有高像素的數(shù)碼攝像頭,可以很清楚地看到硅片的”金字塔” 的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析服務(wù).是太陽(yáng)能電池硅片的普遍專(zhuān)用顯微鏡。
硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析.雜質(zhì)包括: 顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無(wú)機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等，造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象，使磨片不合格. 是太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)企業(yè)進(jìn)行質(zhì)量控制最普通的儀器.
硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析.雜質(zhì)包括: 顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無(wú)機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等，造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象，使磨片不合格. 是太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)企業(yè)進(jìn)行質(zhì)量控制最普通的儀器.
二、技術(shù)參數(shù)
1.目鏡
| 類(lèi)型 | 放大倍數(shù) | 視場(chǎng)(mm) |
| 大視野目鏡 | 10X | Φ22 |
2.物鏡
| 類(lèi)別 | 放大倍數(shù) | 數(shù)值孔徑(NA) | 工作距離(mm) |
| 明暗場(chǎng)無(wú)窮遠(yuǎn)長(zhǎng)距平場(chǎng)消色差物鏡 | 5X | 0.12 | 9.7 |
| 10X | 0.25 | 9.3 | |
| 20X | 0.40 | 7.2 | |
| 40X | 0.60 | 3.7 |
3.光學(xué)放大倍數(shù)：50X 100X 200X 400X
4.三目鏡,傾斜30?,(內(nèi)置檢偏振片,可進(jìn)行切換)
5.雙層機(jī)械移動(dòng)式(尺寸:210mmX140mm,移動(dòng)范圍:75mmX50mm)
6.粗微動(dòng)同軸調(diào)焦, 微動(dòng)格值:2μm,帶鎖緊和限位裝置
7.照明系統(tǒng)：落射 6V 20W 鹵素?zé)?亮度可調(diào),帶視場(chǎng)光欄、孔徑光欄、起偏振片,
透射 6V 20W 鹵素?zé)?亮度可調(diào),內(nèi)置視場(chǎng)光欄, 藍(lán)濾色片和磨砂玻璃
8.阿貝聚光鏡NA.1.25可上下升降
9.防霉:的防霉系統(tǒng)
10.成像系統(tǒng):高像素的CCD攝像頭
4.三目鏡,傾斜30?,(內(nèi)置檢偏振片,可進(jìn)行切換)
5.雙層機(jī)械移動(dòng)式(尺寸:210mmX140mm,移動(dòng)范圍:75mmX50mm)
6.粗微動(dòng)同軸調(diào)焦, 微動(dòng)格值:2μm,帶鎖緊和限位裝置
7.照明系統(tǒng)：落射 6V 20W 鹵素?zé)?亮度可調(diào),帶視場(chǎng)光欄、孔徑光欄、起偏振片,
透射 6V 20W 鹵素?zé)?亮度可調(diào),內(nèi)置視場(chǎng)光欄, 藍(lán)濾色片和磨砂玻璃
8.阿貝聚光鏡NA.1.25可上下升降
9.防霉:的防霉系統(tǒng)
10.成像系統(tǒng):高像素的CCD攝像頭
三、系統(tǒng)組成
(TGB-500)：1.硅片顯微微 2.適配鏡 3.CCD攝像器 4.A/D圖像采集卡
四、總放大參考倍數(shù)
TGB-500：50--2000倍
五、選購(gòu)件
1.圖像測(cè)量軟件 2.目鏡： 20X 10X(帶刻度) 3.物鏡：50X 60X 80X 100X
