一、目的
本設(shè)備基于單旋轉(zhuǎn)補償器調(diào)制技術(shù)一次性獲取Psi/Delta、N/C/S、反射率等光譜，可實現(xiàn)基底上單層到多層薄膜的膜厚、光學常數(shù)的快速分析表征。
二、測量系統(tǒng)規(guī)格
SE-VE光譜橢偏儀技術(shù)參數(shù)
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橢偏儀測頭規(guī)格：
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光譜范圍：400-800nm
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入射角：65°
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光斑大?。?/span>2-3mm
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調(diào)制技術(shù)：PCRSA調(diào)制技術(shù)
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膜厚重復性測量精度：0.05nm（100nm 硅基SiO2樣件，30次重復測量1σ）
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折射率測量精度：0.001（100nm 硅基SiO2樣件，30次重復測量1σ）
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膜厚測量范圍：0.1nm—10μm
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單點測量時間：＜5s
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光源：高性能進口鹵素燈光源（鹵素燈壽命：2,000h）
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可視化樣品顯微對準系統(tǒng)
圖1光譜橢偏測頭原理圖
圖2 SE-VE光譜橢偏儀實物圖
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樣品臺規(guī)格：
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基板尺寸：*大支持樣件尺寸到8inch晶圓 （可定制）
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Z軸位移行程：0-10mm
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樣件臺俯仰角度：> ±2°
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測控與分析軟件
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光譜測量能力：PSI/DELTA橢偏光譜、N/C/S光譜、反射率光譜測量
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數(shù)據(jù)分析能力：具備單層、多層膜厚、光學常數(shù)（折射率、消光系數(shù)）分析能力
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支持常用光學常數(shù)模型以及常用振子模型（柯西模型、洛倫茲模型、高斯模型等），并支持圖形化多振子混合模型擬合功能
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支持多組分薄膜與體材料光學常數(shù)、組分比例分析功能； 核心算法包含嚴格耦合波模型、等效介質(zhì)模型
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支持用戶自定義，軟件不限制拷貝數(shù)量，支持windows10操作系統(tǒng)
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測控與分析計算機
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操作系統(tǒng)：WIN10 64位
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CPU處理器：Intel 酷睿I3
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內(nèi)存：≥4G
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硬盤：≥500G
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顯示器：≥19寸
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配件
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標準SiO2/Si標樣
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標準安裝工具一套
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環(huán)境要求
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橢偏儀承載臺：尺寸>1.5m（長）× 1.0 m（寬），承載能力大于50Kg（建議光學隔振）
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使用溫度范圍：20 ~ 26 ℃
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相對濕度：35% ~ 60% RH
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空氣壓力范圍：750~1014 mbar
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潔凈度： Class 10000
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能源要求
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供電電源電壓：220V AC
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正常頻率范圍：49-51Hz
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相電流：有效值小于0.5A（220V AC）
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功率：小于110 W
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涂裝與表面處理
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涂裝顏色：以黑色為主
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表面處理：鍍化學鎳、陽極處理、烤漆等
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質(zhì)保與售后服務
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整機硬件質(zhì)保期為12個月。在質(zhì)保期內(nèi)出現(xiàn)各類故障供方及時免費維修，對非人為造成的各類零件損壞，及時免費更換
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測控與分析軟件：升級，數(shù)據(jù)分析軟件提供拷貝
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為用戶提供**充分儀器操作與數(shù)據(jù)分析培訓
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提供終身免費數(shù)據(jù)建模與分析技術(shù)支持，為用戶提供樣件材料光學常數(shù)標定與模型庫升級服務
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供方在接到故障報修信息后，供方維修人員4小時內(nèi)電話響應，*晚48小時內(nèi)供方服務工程師進行****維修
