Nikon KrF掃描光刻機(jī)NSR-S210D產(chǎn)能達(dá)到176wph,對(duì)應(yīng)110nm以下設(shè)備的量產(chǎn)
性 能
Resolution 分辨率≦ 110 nm
NA NA 0.82
Exposure light source 曝光光源KrF excimer laser (248 nm wavelength)
Reduction ratio 縮小倍率1:4
Maximum exposure field zui大曝光范圍26 mm × 33 mm
Overlay 重合精度≦ 9 nm
Throughput 產(chǎn)出≧ 176 wafers/hour (76 shots)
KrF掃描光刻機(jī)“NSR-S210D”通過裝載取得業(yè)績(jī)的串聯(lián)臺(tái),生產(chǎn)效率比以往機(jī)型提高了20%。實(shí)現(xiàn)了每小時(shí)生產(chǎn)176片300mm晶圓的高產(chǎn)出,更將對(duì)準(zhǔn)精度提高至9nm以下。以高生產(chǎn)效率、高精度實(shí)現(xiàn)110nm以下設(shè)備的量產(chǎn)。