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TEL CLEAN TRACK ACT8(ACT12)涂膠顯影機(jī)

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  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時(shí)間2022-05-27
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量441
  • 人氣值8037
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公司主營(yíng)實(shí)驗(yàn)室分析檢測(cè)儀器設(shè)備,以實(shí)驗(yàn)室整體建設(shè)為發(fā)展方向。公司目前涉及電子電器、醫(yī)藥生物、石油化工、食品、機(jī)械、新材料、環(huán)境、科研高校等諸多領(lǐng)域。聯(lián)合山東醫(yī)藥化工設(shè)計(jì)院,美國(guó)安捷倫、美國(guó)熱電、日本島津、江蘇天瑞等眾多品牌及多個(gè)***重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室從實(shí)驗(yàn)室布局設(shè)計(jì)出圖、基礎(chǔ)設(shè)施建設(shè)、儀器設(shè)備供應(yīng)、方法開(kāi)發(fā)建立、后期運(yùn)營(yíng)管理,形成完整的專業(yè)實(shí)驗(yàn)室建設(shè)體系,達(dá)到一站式服務(wù),為眾多行業(yè)客戶提供更為完善的整體解決方案。
公司主營(yíng)產(chǎn)品分為四大類,光譜儀、色譜儀、質(zhì)譜儀和環(huán)境在線檢測(cè)。
能量色散X熒光光譜儀(EDX)、波長(zhǎng)色散X熒光光譜儀(WDX)、等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)
、光電直讀光譜儀(OES)、原子吸收分光光度計(jì)(AAS)、原子熒光光譜儀(AFS)、拉曼光譜儀(Raman)、碳硫分析儀(CS)、紅外光譜儀、礦漿載流分析儀(OSA)、氣相色譜儀(GC)、液相色譜儀(LC)、氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀(GC-MS)、液相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀(LC-MS)、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)、水質(zhì)在線分析儀(WAOL);
 

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日本東京電子公司生產(chǎn)的TEL牌涂膠顯影機(jī)CLEANTRACKACT8/12,是有著良好性能和可靠性的半導(dǎo)體微電子生產(chǎn)設(shè)備,是可對(duì)應(yīng)200/300mm硅片生產(chǎn)的涂膠顯影設(shè)備
TEL CLEAN TRACK ACT8(ACT12)涂膠顯影機(jī) 產(chǎn)品詳情

日本東京電子公司生產(chǎn)的TEL牌涂膠顯影機(jī)CLEANTRACK ACT8/12,是有著良好性能和可靠性的半導(dǎo)體微電子生產(chǎn)設(shè)備,是可對(duì)應(yīng)200/300mm硅片生產(chǎn)的涂膠顯影設(shè)備。

半導(dǎo)體制造設(shè)備涂膠顯影機(jī),應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的光刻工藝中,是感光劑(photoresist)的涂布(coat)和顯影(develop)的設(shè)備。在該設(shè)備的涂膠(coat)單元中,硅片上面的感光劑首先被涂布,后被送到曝光設(shè)備里,通過(guò)光刻機(jī)將MASK上面圖形投影到硅片上。

接下來(lái),硅片回到涂膠顯影機(jī)的顯影單元中,通過(guò)對(duì)硅片表面感光膠噴涂顯影液,使被感光部分的感光劑融化,這樣wafer上就出現(xiàn)了凹凸的圖形。經(jīng)過(guò)各種工序重復(fù),最終就形成了細(xì)微而復(fù)雜的集成電路。

設(shè)備各個(gè)單元功能說(shuō)明

 涂膠顯影機(jī)各單元功能說(shuō)明


工藝技術(shù)指標(biāo)與要求:

涂膠膜厚均勻性:3sigma 小于 10nm
顯影條寬均勻性:(0.15μmCD 測(cè)試)3sigma 小于 10nm
腔體氨氣濃度:<1ppb(FAB 環(huán)境小于 100ppb 條件下)
CHP 熱板(如果有):50~200℃(±0.3℃)
產(chǎn)能:60WPH
與曝光機(jī)聯(lián)機(jī)要求:需與曝光機(jī)聯(lián)機(jī)作業(yè)(inline)。


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