日本東京電子公司生產(chǎn)的TEL牌涂膠顯影機(jī)CLEANTRACK ACT8/12,是有著良好性能和可靠性的半導(dǎo)體微電子生產(chǎn)設(shè)備,是可對(duì)應(yīng)200/300mm硅片生產(chǎn)的涂膠顯影設(shè)備。
半導(dǎo)體制造設(shè)備涂膠顯影機(jī),應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的光刻工藝中,是感光劑(photoresist)的涂布(coat)和顯影(develop)的設(shè)備。在該設(shè)備的涂膠(coat)單元中,硅片上面的感光劑首先被涂布,后被送到曝光設(shè)備里,通過(guò)光刻機(jī)將MASK上面圖形投影到硅片上。
接下來(lái),硅片回到涂膠顯影機(jī)的顯影單元中,通過(guò)對(duì)硅片表面感光膠噴涂顯影液,使被感光部分的感光劑融化,這樣wafer上就出現(xiàn)了凹凸的圖形。經(jīng)過(guò)各種工序重復(fù),最終就形成了細(xì)微而復(fù)雜的集成電路。
設(shè)備各個(gè)單元功能說(shuō)明