鎢燈絲掃描電子顯微鏡EVO MA 25/LS 25

詳細(xì)描述:
品牌:卡爾·蔡司 | 型號(hào):EVO MA 25/LS 25 |
制造商:德國卡爾蔡司公司 | 經(jīng)銷商:歐波同有限公司 |
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【品牌故事】
世界可見光及電子光學(xué)的企業(yè)——德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其 電子光學(xué)前身為LEO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋)和Zeiss。積掃描電鏡領(lǐng)域40多年及透射電鏡領(lǐng)域60年的經(jīng)驗(yàn),電子光學(xué)成像技術(shù)在世界上創(chuàng)造了數(shù)個(gè)里程碑: -與AEG公司合作實(shí)現(xiàn)了透射電子顯微鏡的商業(yè)化(1949) -陸續(xù)推出的EM9型電子顯微鏡是世界上*具有自動(dòng)曝光控制的電磁式 -透射電子顯微鏡TEM(1956) -推出EM902型配用Castaing-Henry過濾器商用電子顯微鏡,用戶利用 -該種新產(chǎn)品能夠得到高分辨率元素分布圖片(1984) -配用靜電電磁物鏡(Gemini技術(shù))的場發(fā)射掃描電子顯微鏡DSM982 -Gemini投放市場(1993) -推出具有Koehler照明的200KV場發(fā)射透射電鏡(2003) -推出具有鏡筒內(nèi)校正Omega能量濾波器的場發(fā)射透射電鏡(2003)
CARL ZEISS其前瞻性和完善的設(shè)計(jì),融合歐洲*的制造工藝, 造就了該品牌在光電子領(lǐng)域的地位。自成立至今,一直延續(xù)不 斷創(chuàng)新的傳統(tǒng),公司擁有廣泛的專有技術(shù),隨著離子束技術(shù)和基于電子束的 分析技術(shù)的加入,可為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案。其產(chǎn)品的高性能、 高質(zhì)量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到世界范圍內(nèi)廣大用戶的信賴與認(rèn)可。 作為一家電子光學(xué)產(chǎn)品提供商,我們將為您提供完善的納米技術(shù)解決方案,并且以專業(yè)化的手段讓您的投資物有所值。無論您是企業(yè)還是科研機(jī)構(gòu),卡爾 蔡司在高質(zhì)量電子光學(xué)系統(tǒng)方面優(yōu)良的傳統(tǒng)都會(huì)為您的業(yè)績做出積極的貢獻(xiàn)。
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【總體描述】 EVO系列電鏡是高性能、功能強(qiáng)大的高分辨應(yīng)用型掃描電子顯微鏡。EVO MA 25用于材料領(lǐng)域,LS 25用于生命科學(xué)領(lǐng)域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術(shù)級(jí)的物鏡設(shè)計(jì),提供高低真空成像功能,可對(duì)各種材料表面作分析,并且具有業(yè)界的X射線分析技術(shù)。革命性的Beamsleeve的設(shè)計(jì),確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像,同時(shí)還可以進(jìn)行準(zhǔn)確的能譜分析。樣品臺(tái)為五軸全自動(dòng)控制。標(biāo)準(zhǔn)的高效率無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護(hù))成像分析。 |
【技術(shù)參數(shù)】 分辨率:3.0nm@ 30KV(SE and W) 4.0nm@ 30KV(VP with BSD) 加速電壓:0.2—30KV 放大倍數(shù):5—1000000x 探針電流:0.5PA-5μA X-射線分析工作距離:8.5mm 35度接收角 低真空壓力范圍:10—400Pa (LS25:10-3000Pa) 工作室:420mm(φ)×330mm(h) 5軸試樣載物臺(tái):X=130mm Y=130mm Z=50mm T=-10°- 90°R=360° 較大試樣高度:210mm,試樣大直徑:300mm 系統(tǒng)控制:基于Windows 7 的SmartSEM操作系統(tǒng) 存儲(chǔ)分辨率:32,000 × 24,000 pixels 【主要特點(diǎn)】 大的樣品高度可達(dá)210mm 大樣品重量5Kg 大的樣品直徑300mm 能在可變壓力下操作 高亮度LaB6資源選擇 光線套選擇 |
【產(chǎn)品應(yīng)用】 掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。 |