反射式光譜橢偏儀價格
具有250-1000nm的波長范圍，可與顯微分光光度計聯合使用，測量極小斑點的薄膜厚度和折射率，可廣泛用于MEMS，半導體晶圓等領域,是反射光譜橢偏儀品牌中光譜橢偏儀價格較低的橢偏儀。
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反射式光譜橢偏儀價格spectroscopic ellipsometer,從深紫外到可見光再到近紅外.深紫外波長非常適合測量超薄薄膜，比如納米厚度薄膜厚度，比如硅晶圓的薄膜厚度，典型值在2nm左右。對于測量許多材料的帶隙，深紫外光譜橢偏儀也非常重要。
橢圓偏振技術是通過研究光束在樣本表面反射后偏振態(tài)變化而獲得表面薄膜厚度等信息的薄膜測量技術。
與反射計或反射光譜技術不同的是，光譜橢偏儀參數Psi 和Del并非在常見入射角下獲得。通過改變入射角大小，可獲得許多組數據，這樣就非常有助于優(yōu)化橢偏儀測量薄膜或樣本表面的能力，因此變角橢偏儀功能遠遠大于固定角橢偏儀。
改變橢偏儀入射角的方法有兩種，一種是手動調節(jié)，一種是自動調節(jié)入射角，我們可提供兩種模式的橢偏儀。
反射式光譜橢偏儀MSP特色
易于安裝，拆卸和維護
*的光學設計
自動改變入射角，入射角分辨率高達0.01度
高功率250-1100nm光源適合多種應用
采用陣列探測器確保高速測量
測量薄膜膜堆的薄膜厚度和折射率
可用于實或在線監(jiān)測薄膜厚度和折射率
具有齊全的光學常數數據庫
提供工程師模式，服務模式和用戶模式三種使用模式
靈活的工程師模式用于各種安裝設置和光學模型測量
一鍵快速測量
全自動標定和初始化
精密樣品準直界面直接樣品準直，不需要額外光學
精密高度和傾斜調整
適合不同材料和不同后的樣品襯底基片
2D和3D數據顯示輸出
