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粉體等離子清洗機(jī)

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更新時(shí)間:2025-02-04 08:16:56瀏覽次數(shù):90次

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應(yīng)用領(lǐng)域:等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域,主要用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的

應(yīng)用領(lǐng)域:

等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、線 路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域,主要用 于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的。


專為處理粉體如粉、顆粒狀材料樣品而設(shè)計(jì)的粉體專用等離子清洗機(jī),可以高效率地處理微細(xì)的甚至分子級別的超細(xì)粉體材料,改變傳統(tǒng)真空等離子清洗機(jī)無法處理粉體樣品的問題。同時(shí)可實(shí)現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。

粉體等離子清洗機(jī)原理:

粉體等離子清洗機(jī)是在常規(guī)等離子清洗機(jī)真空腔內(nèi),放置可旋轉(zhuǎn)并帶攪拌的樣品瓶,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序等離子體,作用在樣品瓶內(nèi)粉體樣品上,通過等離子體轟擊被清洗粉體材料表面,改變材料表面性質(zhì),優(yōu)化材料表面性能。

等離子體作用在粉體上,可以有目的地改變粉體的物理、化學(xué)性質(zhì),在保持粉體材料原有性能的前提下,賦予其表面新的性能,使其表面性質(zhì)由疏水性變?yōu)橛H水性或由親水性變?yōu)槭杷裕瑥亩纳品垠w粒子表面的浸潤性,增強(qiáng)粉體粒子在介質(zhì)中的界面相容性,使粒子容易分散在水中或有機(jī)化合物中。主要應(yīng)用以下四大領(lǐng)域:

無機(jī)粉體材料的表面處理:目的是為了抑制粉體團(tuán)聚,提高其在聚合物中的分散性和相容性。通過對無機(jī)粉體進(jìn)行表面處理,可以顯著改善粉體與聚合物復(fù)合材料的力學(xué)、光學(xué)、電學(xué)等性能。例如,通過聚合性單體和引發(fā)氣體的混合放電,等離子體可在粉體表面引發(fā)聚合反應(yīng),形成改性覆層,從而提升材料的綜合性能。

聚合物粉體材料的表面鍵能調(diào)整:由于聚合物粉體通常具有比無機(jī)粉體更弱的表面鍵能,因此更易受到等離子處理的影響。處理時(shí)間和等離子體強(qiáng)度的控制對于獲得理想的處理效果尤為重要。通過等離子處理,可以改善粉體表面的潤濕性,提高其與粘結(jié)劑或其他材料的粘接強(qiáng)度,同時(shí)去除表面的有機(jī)污染物。

等離子表面處理在粉體材料表面功能化中的應(yīng)用:等離子體表面處理技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)粉體材料表面的功能化,如在表面接枝、交聯(lián)、包覆等處理過程中,等離子體產(chǎn)生的活性粒子能夠與粉體表面發(fā)生反應(yīng),引入新的官能團(tuán)或改變表面結(jié)構(gòu),從而賦予粉體材料新的表面特性。

綜上所述,等離子體處理粉體材料是材料制備,新材料、新工藝和新產(chǎn)品開發(fā)的重要方法,不僅改善了粉體材料的表面性能,而且提高了粉體材料的附加價(jià)值,擴(kuò)大了粉體材料的應(yīng)用領(lǐng)域。

技術(shù)參數(shù)

型號

P3

P3plus

艙體尺寸

D200XΦ155mm

D200XΦ155mm

艙體容積

3.8L

3.8L

艙體材質(zhì)

不銹鋼或石英玻璃可選

不銹鋼或石英玻璃可選

石英轉(zhuǎn)瓶尺寸

Φ75xH120mm

Φ75xH120mm

轉(zhuǎn)瓶轉(zhuǎn)速

0-100rpm可調(diào)

0-100rpm可調(diào)

射頻電源

40KHz

13.56MHz

射頻功率

10-600W可調(diào)

10-150W可調(diào)

匹配器

自動(dòng)匹配

自動(dòng)匹配

激發(fā)方式

電容式或電感式

電容式或電感式

氣體控制

雙浮子流量計(jì)

時(shí)間設(shè)定

9999

真空泵

抽速4m3/h

氣體穩(wěn)定時(shí)間

1分鐘

真空度

100pa以內(nèi)

AC220V  50/60Hz  666/316W

產(chǎn)品尺寸

L425xW420xH465mm

包裝尺寸

L560xW545xH730mm

整機(jī)重量

32kg




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