PHI Quantera II 掃描XPS探針是 ULVAC-PHI 公司新研發(fā)的XPS分析儀器，是在 Quantum 2000 和 Quantera SXM 的基礎(chǔ)上延伸出來的，其革命性技術(shù)包括有：聚焦掃描X射線源，的雙束中和技術(shù)，在非常低的電壓下仍可保持高性能的離子束源以進行XPS的深度分析，一個精密的五軸樣品臺和負責全自動樣品傳送的機械手臂，以及一個自動化且可支持互聯(lián)網(wǎng)遠程控制的儀器......

詳細介紹

優(yōu)點

操作簡單

● 無論您是在分析一個薄膜樣品、有機聚合物、一個大的塑料鏡片、不銹鋼刀片或焊錫球等，儀器所有的設(shè)置和設(shè)定都是相同的。操作者只需用鼠標在樣品的光學圖像上單擊選擇一個或多個分析區(qū)域，打開儀器的雙光束中和系統(tǒng)和自動Z-軸高度調(diào)整功能，就可通過儀器軟件的自動隊列（Add Q）執(zhí)行所有分析。整個操作流程不需要任何的設(shè)定調(diào)整，不用因樣品成分不一致而有任何顧慮，甚至也不需要有操作員整天待在儀器旁邊，一切的操作都可自動完成。

圖1 - 全自動無人值守，分析無憂的XPS Quantera II

薄膜分析

● Quantera II 不僅提供了無機薄膜樣品良好的深度剖面分析性能，而且也可利用 C₆₀離子槍對有機薄膜得出非常的深度分析結(jié)果。

圖2 - (左) 以2 keV 氬離子濺射源對一個半導體封裝的錫球表面進行深度分析；

(右) 使用10 keV C₆₀離子源，對50/50 Rapamycin和PLGA的薄膜進行深度分析。

掃描 XPS探針

● PHI Quantera II 使用了聚焦掃描X射線源，使XPS微區(qū)分析變得更高效。如圖4所示，X射線源是經(jīng)由聚焦電子光柵掃描并撞擊在鋁陽極上所產(chǎn)生的，由此產(chǎn)生的聚焦鋁X射線會再透過橢球形狀的單色器反射在樣品表面上。當電子束掃描在鋁陽極上時，所產(chǎn)生的X射線束在樣品上也會作出同步的掃描。X射線束的直徑大小可調(diào)范圍為 7.5 微米以下到 400 微米以上。

圖3 - (a) PHI 的聚焦掃描X射線源說明。(b) 使用Quantera II 對MRS-3標樣所生的二次電子像，可見

以Quantera II 可以分析到約直徑為6微米區(qū)域的功能。

微區(qū)光譜

● 以下圖5中聚合物表面異物樣品為例。在光學顯微鏡下，透明的聚合物薄膜表面上未發(fā)現(xiàn)有任何污染物。而使用二次電子影像時就立即顯示了聚合物表面上污染物的存在。在短短幾分鐘內(nèi)，Quantera II 儀器就可利用一個直徑為 20 微米的X射線束對污染物成分進行分析，從而確定為氟碳污染物。

圖4 - Quantera II的污染分析。(a) 二次電子成像。(b) 多點采譜分析。(c) 碳 1s的圖譜。 (d) 元素分布圖（留意分布中右邊較小點的污染不含有氟或碳）。 (e) 對較小的污染做點分析，使用7.5微米的X射線束確定了第二污染物含有鋅的存在。