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設備特點　　此款CVD系統前端配有可加熱到400℃的預加熱器，輔助二維材料蒸發(fā)，后端為雙溫區(qū)管式爐，溫度控制精確，操作簡便

小三溫區(qū)滑軌CVD/BTF-1200C-III-S-SL-3ZL

主要特點1.此款設備提供兩個獨立滑動的溫場，兩溫場獨立控制，每個溫場的加熱區(qū)的長度為230mm，可在實驗過程中推進或推離樣品，提供兩個位置的快升降溫

主要特點　　此設備具有兩個獨立的溫場，溫場之外配有磁力拉桿和石英料舟，并配有內探熱電偶，可實現在實驗過程中將固態(tài)源(如硫粉、硒粉等)推進熱場，并同時可檢測溫度

大三溫區(qū)滑軌CVD系統（低真空、高真空環(huán)境均可）BTF-1200C-III-SL-4ZL