大型供水廠消毒設備-江西次氯酸鈉發(fā)生器

大型供水消毒設備次氯酸鈉發(fā)生器，和創(chuàng)智云次氯酸鈉發(fā)生器優(yōu)勢亮點：
    1、鈦基陽采用釕、銥、銠、鉑等五元稀貴金屬涂層精制而成，性能穩(wěn)定、電解效率高、免清洗、耐腐蝕。
   2、和創(chuàng)次氯酸鈉發(fā)生器采用進口原料自行研制生產(chǎn)的不對稱耐腐蝕電解隔膜，具有高電導率、耐腐蝕、微孔徑、免維護、能自動平衡電解槽陰、陽箱的酸堿度的特點。該電解隔膜不僅使設備產(chǎn)生消毒劑效率高、同時還降低了的鹽耗、電耗。
    3、采用*的計量泵強制循環(huán)電解液的工作方式，了電周圍電解液化學組份濃渡始終處于穩(wěn)定狀態(tài)，不僅使發(fā)生器產(chǎn)生消毒劑量十分穩(wěn)定而且提高了次氯酸鈉溶液的含量。
   4、科學完善的純鈦換熱系統(tǒng)不僅使設備始終保持在工作溫度，而且散熱性能好，節(jié)約冷卻水。
   5、采用電解電源和技術的自動控制系統(tǒng)系列具有自動排堿、故障報警、電解槽過溫保護等功能。
  6、發(fā)生器采用全密封設計，工作時無電解液和消毒劑泄漏。
   7、次氯酸鈉發(fā)生器全部由UPVC、鈦復合材料等耐腐材料制成，設備耐腐蝕、使用壽命長。

大型供水廠消毒設備-江西次氯酸鈉發(fā)生器

    電解法次氯酸鈉發(fā)生器的，需要根據(jù)用戶的配置要求進行報價，和創(chuàng)智云牌次氯酸鈉發(fā)生器可以按照用戶要求設計定制，有型次氯酸鈉發(fā)生器和經(jīng)濟型次氯酸鈉發(fā)生器，實現(xiàn)云端控制，次氯酸鈉發(fā)生器，如果配置，成本就會高些，相應也會高些，主要根據(jù)用戶的實際要求進行配置，如果用戶預算較低，配置也可以考慮普通經(jīng)濟型設備，也會相對便宜些，普通的設備，家庭用的有幾千到幾萬的，大型設備幾百萬的不等。

次氯酸鈉發(fā)生器系統(tǒng)組成部件介紹：
　　1、稀鹽水預制：
　　稀鹽水箱：精制鹽投入到溶鹽罐后，通過人為攪拌對鹽顆粒進行初次溶解達到免攪拌溶解，形成比例鹽水，(或者增加臺鹽水循環(huán)泵)。
　　2、次氯酸鈉發(fā)生器主機 （額定產(chǎn)氯量：50-20000g/H ）
　　次氯酸鈉發(fā)生器主機是本成套系統(tǒng)的重要組成部分，它是使用電解稀鹽水制取成次氯酸鈉溶液的關鍵部件；包含部件有：電解槽、電解電源、流量及溫控開關、操作面板、電解電壓/電流顯示等；
　　3、電解槽總成由電解槽體及電解電組成；
　　電解槽體：管式電解槽，使用高耐腐蝕的UPVC管道制作而成，內(nèi)部電板陰陽之間采用PVDF材料進行隔離，具有耐腐蝕、穩(wěn)定性高、使用壽命長的特點；
　　電板：板式電，電的陰陽基材全部采用純鈦材料制成，在電解過程中，陰是得到保護的，而陽是受損失的，因此陽表面必須做涂層保護，發(fā)生器電陽表面采用經(jīng)納米技術處理，顆粒精細度達到20納米的釕、銥氧化物進行涂層，分25次以上涂層，涂層厚度20微米，可電、穩(wěn)定的使用壽命，同時電板可滿足導條件，方便快捷的處理電板上的結垢。

　　4、使用壽命：次氯酸鈉發(fā)生器的電免費使用1年,正常使用壽命可達5 -8年。
　　5、超聲波流量計：主管道上安裝超聲波流量計，監(jiān)測管網(wǎng)的瞬時流量和總流量，并和加藥設備連鎖，加藥根據(jù)流量大小投加；
　　6、溫度控制開關：電解槽電解液出液均帶有PT100溫度傳感器，機器開始運行時，控制中心開始檢測溫度傳感器，當溫度超出設定值時，機器馬上停止工作，發(fā)出超溫報警信號，同時機器處于待機狀態(tài)，確保機器的安全可靠運行；
　　7、高性能長壽命核心電解電：電解過程中，陰是得到保護的，而陽是受損失的，因此陽表面必須做涂層保護，發(fā)生器電陽表面采用經(jīng)納米技術處理，采用精細度達到20納米的釕、銥氧化物進行涂層，可電有很長的使用壽命
　　8、電解電源：次氯酸鈉發(fā)生器采用高頻型恒流電子開關電源做為電解電源，由于采用高頻整流技術，因此交直流轉換效率達到95%以上，發(fā)熱量很低，運行穩(wěn)定、體積小，比普通的硅整流器的電轉換效率提高20%以上（《次氯酸鈉發(fā)生器》GB17126標要求電流效率≥72%）。
　　9、存儲罐：是發(fā)生器所制取的全部次氯酸鈉溶液的存儲容器，可帶有液位控制，當液位達到高位時，處于滿槽狀態(tài)，發(fā)生器暫停運行，并點亮滿槽燈，隨著溶液的逐漸被使用，當液位下降補液位時，發(fā)生器重新啟動運行，滿槽燈滅，當液位下降低位控制點以下時，表示存儲槽的次氯酸鈉溶液已經(jīng)很少，系統(tǒng)會暫停自動投氯，直液位上升低位控制點以上。