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詳解磁控濺射技術(shù)2023/03/22
一、磁控濺射的工作原理:磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積(PVD)的方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好,成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點(diǎn)。磁控濺射的工作原理是:在高真空的條件下充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽(yáng)極(鍍膜室壁)之間施加幾百K直流電壓,在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電,電子在電場(chǎng)E的作用下,在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,使氬氣發(fā)生電離(在高壓作用下Ar原子電離成為Ar+離子和電子),入射離子(Ar+)在電場(chǎng)的作用下轟擊靶材,使得靶材表面的中性原子或分子獲得
NRE-4000型RIE-HCP系統(tǒng)有什么優(yōu)勢(shì)2022/07/28
我們的優(yōu)勢(shì)|NRE-4000型RIE-HCP系統(tǒng)NANO-MASTERNRE-4000型RIE-HCP系統(tǒng),用于高速刻蝕硅、SiO2和Si3N4基片,通過(guò)配套HCP高密度中空陰極等離子源,系統(tǒng)可以支持RIE和RIE-HCP應(yīng)用,提供廣泛的應(yīng)用。眾多的優(yōu)勢(shì)配置,使得NRE-4000型系統(tǒng)具有許多優(yōu)勢(shì):?超高的薄膜均勻性?良好的粘附力?超凈的沉積(高真空支持)?出色的工藝控制?高度的可重復(fù)性(計(jì)算機(jī)全自動(dòng)工藝控制)?易使用(可直接調(diào)用編好的工藝程序)?運(yùn)行可靠(所有核心組件均帶有保護(hù))?低維護(hù)(完整
我們的優(yōu)勢(shì)|離子束刻蝕2022/07/25
我們的優(yōu)勢(shì)|離子束刻蝕NANO-MASTER的離子束刻蝕系統(tǒng)有很強(qiáng)的適應(yīng)性,可以根據(jù)不同的應(yīng)用建立不同的結(jié)構(gòu),不同的樣品臺(tái)和離子源配置可實(shí)現(xiàn)不同的應(yīng)用范圍。系統(tǒng)中的樣品臺(tái)可實(shí)現(xiàn)正負(fù)90°傾斜、旋轉(zhuǎn)、水冷和背氦冷卻。NM成熟的技術(shù)可控制基片溫度在50℃以內(nèi)。通過(guò)傾斜和旋轉(zhuǎn),深溝可切成斜角,通過(guò)控制側(cè)壁輪廓和徑向可提高均勻性,不同的構(gòu)造不同的應(yīng)用可選擇不同的選配項(xiàng),也可增加濺射實(shí)現(xiàn)刻蝕之后的涂覆保護(hù)。應(yīng)用十分廣泛。NANO-MASTER的離子束刻蝕在行業(yè)中非常有競(jìng)爭(zhēng)力,它憑什么可以這樣脫穎而出呢?1
NLD4000型原子層沉積案例解析2022/07/25
NANO-MASTERNLD-4000型等離子增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)可以提供高品質(zhì)的薄膜沉積,通過(guò)配套ICP離子源系統(tǒng)可以支持PEALD和T-ALD等廣泛應(yīng)用。眾多的優(yōu)勢(shì)配置,使得NLD-4000型系統(tǒng)具有許多優(yōu)勢(shì):√超高的薄膜均勻性√良好的粘附力√超凈的沉積(高真空支持)√出色的工藝控制√高度的可重復(fù)性(計(jì)算機(jī)全自動(dòng)工藝控制)√易使用(可直接調(diào)用編好的工藝程序)√運(yùn)行可靠(所有核心組件均帶有保護(hù))√低維護(hù)(完整的安全互鎖)√高、低溫基片樣品臺(tái)√小的占地面積26”x44”√全自動(dòng)工藝控制客戶案例參數(shù)
帶你一文領(lǐng)略磁控濺射2022/07/25
主要功能:主要用于半導(dǎo)體應(yīng)用,及各種需要進(jìn)行微納工藝濺射鍍膜的情形??梢杂糜诮饘俨牧希ń稹y、銅、鎳、鉻等)的直流濺射、直流共濺射,絕緣材料(如陶瓷等)的射頻濺射,以及反應(yīng)濺射能力?;芍С止杵趸杵A?,以及對(duì)溫度敏感的有機(jī)柔性基片等。工作原理:通過(guò)分子泵和機(jī)械泵組成的兩級(jí)真空泵對(duì)不銹鋼腔體抽真空,當(dāng)廣域真空計(jì)顯示的讀數(shù)達(dá)到10-6Torr量級(jí)或更高的真空時(shí),主系統(tǒng)的控制軟件通過(guò)控制質(zhì)量流量計(jì)精確控制Ar氣體(如需要濺射氧化物薄膜,可增加O2),此時(shí)可以設(shè)定工藝所要求的真空(一般在0
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