● 應(yīng)用領(lǐng)域:高劑量離子注入光刻膠的去除,濕法或干法刻蝕前后殘膠去除,MEMS 中犧牲層的去除,去除化學(xué)殘余物,去浮渣工藝,SU-8 光刻膠去除等
● 優(yōu)勢:去膠速度快,對產(chǎn)品損傷小,設(shè)計(jì)緊湊,操作簡單
● 工藝腔室:鋁材質(zhì),尺寸 350(W)×350(D)×170(H)mm
● 樣品尺寸:12 寸,向下兼容
● 腔門:抽屜式帶加熱臺盤 60 - 200℃(選配 250℃ 加熱臺盤),帶觀察窗
● 微波源:2.45GHz, 1200W
● 氣路:標(biāo)配兩路工藝氣體,帶質(zhì)量流量計(jì)(可升級至 4 路)
● 真空規(guī):Pirani,PCR280 Standard
● 真空泵:干泵或油泵可選
● 控制系統(tǒng):10.4 寸觸摸屏,Windows系統(tǒng),圖形化操作界面
● 電力需求:3 / N / PE AC 50Hz 400 / 240V 16A
● 整機(jī)尺寸:560(W)×770(D)×770(H)mm