PIPS II 精密離子減薄儀
設(shè)備簡介：
一代PIPS™離子減薄系統(tǒng)樹立了透射電鏡（TEM）制樣的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)已超20年，而全新一代PIPS II 精密離子減薄儀基于一代PIPS 有了根本性的升級。
PIPS II 精密離子減薄儀包含了 WhisperLok®，能對減薄樣品進(jìn)行準(zhǔn)確定位。10英寸觸摸屏簡單易用，提高對減薄區(qū)域的精度控制和減薄過程的可重復(fù)性。
配備的數(shù)碼變焦顯微鏡系統(tǒng)可以實(shí)時(shí)監(jiān)測減薄過程，同時(shí)可將獲取的彩圖存儲(chǔ)于DM軟件中，用于與樣品在TEM中成像對比。
性能優(yōu)點(diǎn)：
- WhisperLok系統(tǒng)及X-Y可調(diào)樣品臺：可對樣品感興趣區(qū)域進(jìn)行對中重復(fù)減薄
- 低能量聚焦離子槍：改進(jìn)的低能量范圍的性能可用于FIB樣品的表面清掃
- 能量從 0.1 keV到 8 keV可調(diào) : 低能范圍的性能提升可以減少非晶層
- 液氮冷臺：去除熱效應(yīng)產(chǎn)生的樣品損傷
- 10英寸彩色觸摸屏控制：簡單易用的控制圖形用戶界面
- 數(shù)碼變焦顯微鏡系統(tǒng)：實(shí)時(shí)監(jiān)測減薄過程
- DM軟件存儲(chǔ)彩圖：可以使用同TEM和EELS數(shù)據(jù)相同的格式儲(chǔ)存光學(xué)顯微圖像
應(yīng)用：
- 半導(dǎo)體
- 金屬（氧化物，合金）
- 陶瓷
技術(shù)規(guī)格：
| 離子源 | |
| 離子槍 | 兩個(gè)配有低能聚焦能力電極的潘寧離子槍 |
| 拋光角度（°） | +10 到-10,每支離子槍可獨(dú)立調(diào)節(jié) |
| 離子束能量 (keV) | 0.1 ? 8.0 |
| 離子束流密度峰值 (mA/cm2) | 10 |
| 射束校準(zhǔn) | 使用熒光屏的精密光束校準(zhǔn) |
| 離子束直徑 | 可用氣體流量計(jì)或放電電壓來調(diào)節(jié) |
| 樣品臺 | |
| 樣品尺寸（mm） | 3 或者 2.3 |
| 樣品夾持 | |
| 標(biāo)準(zhǔn) | DuoPost® |
| 可選 | 石墨臺 |
| 轉(zhuǎn)速 (rpm) | 1 ? 6 |
| 離子束調(diào)制 | 角度范圍可調(diào)的單向調(diào)制或雙向調(diào)制 |
| X, Y 方向平移 (mm) | ±0.5 |
| 樣品觀察 | |
| Option 1 | 雙目顯微鏡 |
| Option 2 | 數(shù)碼變焦顯微鏡及 DM 軟件存儲(chǔ)（選配） |
| 真空系統(tǒng) | |
| 干泵系統(tǒng) | 80 L/s 的渦輪分子泵，具備兩級隔膜前級泵 |
| 壓力 (torr) | |
| 基本壓力 | 5 x 10-6 |
| 工作壓力 | 8 x 10-5 |
| 真空規(guī) | 冷陰極型，用于主樣品室；固體型，用于前級機(jī)械泵 |
| 樣品氣鎖 | WhisperLok,技術(shù)，樣品交換時(shí)間小于1 分鐘 |
| 用戶界面 | |
| 10 英寸彩色觸摸屏 | 操作簡單，且能夠控制所有參數(shù)和配方式操作 |
| 尺寸及使用要求 | |
| 外形尺寸 (長 x 寬 x 高, mm) | 547 × 495×615 |
| 運(yùn)輸重量 (kg) | 45 |
| 功耗 (W) | |
| 運(yùn)行時(shí) | 200 |
| 待機(jī)時(shí) | 100 |
| 電源要求 | 通用 100/240 VAC, 50/60 Hz （用戶電壓和頻率） |
| 氬氣 (psi) | 25 |
訂貨編號：LR-200635
