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NPC-3500(A)研發(fā)用等離子去膠機(jī)

參考價(jià)訂貨量

1000000

≥1臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)
  • 品牌其他品牌
  • 所在地國外
  • 更新時(shí)間2023-03-22
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限3
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量40
  • 人氣值672
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那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月,是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國大陸,香港,中國臺(tái)灣和澳門)的客戶,同時(shí)我們?cè)谥袊箨懺O(shè)有專門的服務(wù)辦公室,提供銷售和售后技術(shù)服務(wù)。


那諾-馬斯特中國的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測試設(shè)備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國,該公司是法國那諾-馬斯*限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司,是一家國際前列的缺陷檢測和高速鍍層測量的計(jì)量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。


自2001年Nano-Master開始設(shè)計(jì)開發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備,正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD,用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD,濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺 、組合濺),熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā),離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕,原子層沉積,兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時(shí)間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為國際薄膜設(shè)備的供應(yīng)商,已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個(gè)不同國家的大學(xué)、研發(fā)中心和國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室。

我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計(jì)和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)工程師、技術(shù)支持人員,使得公司擁有專業(yè)的服務(wù)團(tuán)隊(duì)。作為薄膜工藝的設(shè)備提供商,我們的目標(biāo)是提供高品質(zhì)的服務(wù)并始終維持超高水平的集成度。






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產(chǎn)地進(jìn)口 加工定制
NPC-3500(A)研發(fā)用等離子去膠機(jī):NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
NPC-3500(A)研發(fā)用等離子去膠機(jī) 產(chǎn)品詳情

NPC-3500(A)研發(fā)用等離子去膠機(jī)概述:NANO-MASTER 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。


NPC-3500(A)研發(fā)用等離子去膠機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 緊湊型立式系統(tǒng)

  • 自動(dòng)上下載片

  • 帶Load Lock

  • 不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔

  • 兼容100級(jí)超凈間使用

  • 淋浴頭、ICP或微波等離子源

  • 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)

  • RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺(tái)

  • 全自動(dòng)或手動(dòng)RF調(diào)諧

  • z多可支持5個(gè)MFC帶電拋光的氣體管路

  • PC計(jì)算機(jī)控制的氣動(dòng)閥

  • 帶密碼保護(hù)的多級(jí)訪問控制

  • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制

  • 機(jī)械泵的壓力可達(dá)到10mTorr

  • 250 l/s的渦輪分子泵

  • 極限真空為5x10-7Torr

  • 完整的安全聯(lián)鎖

研發(fā)用等離子去膠機(jī)應(yīng)用:

  • 有機(jī)物以及無機(jī)物的殘留物去除

  • 光刻膠剝離或灰化

  • 去殘膠以及內(nèi)腐蝕(深腐蝕)應(yīng)用

  • 清洗微電子元件,電路板上的鉆孔或銅線框架

  • 提高黏附性,消除鍵合問題

  • 塑料的表面改型:O2處理以改進(jìn)涂覆性能

  • 產(chǎn)生親水或疏水表面






關(guān)鍵詞:氣動(dòng)閥
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