NRE-4000（A）全自動反應(yīng)離子刻蝕概述：
NRE-4000是一款獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2"的視窗,另一個空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持至大到12”的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計，并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6 Torr 或更小的極限真空。該系統(tǒng)系統(tǒng)可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個節(jié)流閥,一個250l/s的渦輪分子泵,濾網(wǎng)過濾器,以及一個10cfm的機(jī)械泵(帶Formblin泵油).RF射頻功率通過600W,13.56MHz的電源和自動調(diào)諧器提供。系統(tǒng)將持續(xù)監(jiān)控直流自偏壓,該自偏壓可以高達(dá)-500V.這對于各向異性的刻蝕至關(guān)重要。
該系統(tǒng)是基于PC控制的全自動系統(tǒng).系統(tǒng)真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實(shí)時顯示,流量及功率則以數(shù)字形式實(shí)時顯示.系統(tǒng)提供密碼保護(hù)的四級訪問功能:操作員級、工程師級、工藝人員級,以及維護(hù)人員級.允許半自動模式(工程師模式)、寫程序模式(工藝模式), 和全自動執(zhí)行程序模式(操作模式)運(yùn)行系統(tǒng)?；谌詣拥目刂?，該系統(tǒng)具有高度的可重復(fù)性。
NRE-4000（A）全自動反應(yīng)離子刻蝕產(chǎn)品特點(diǎn)：
鋁質(zhì)腔體或不銹鋼腔體
不銹鋼立柜
能夠刻蝕硅的化合物(~400? /min)以及金屬
典型的硅刻蝕速率，400 ?/min
高達(dá)12”的陽極氧化鋁RF樣品臺
水冷及加熱的RF樣品臺
大自偏壓
淋浴頭氣流分布
極限真空5x10-7Torr，20分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6Torr級別
渦輪分子泵
至多支持8個MFC
無繞曲氣體管路
自動下游壓力控制
雙刻蝕能力支持：RIE以及PE刻蝕（可選）
終點(diǎn)監(jiān)測
氣動升降頂蓋
自動上下載片
預(yù)真空鎖
基于LabView軟件的PC計算機(jī)全自動控制
菜單驅(qū)動，4級密碼訪問保護(hù)
*的安全聯(lián)鎖
可選ICP離子源以及低溫冷卻樣品臺，用于深硅刻蝕
Features：
Aluminum or Stainless Steel Chamber
Stainless Steel Cabinet
Capable of etching Si compounds (~400 ? /min)and metals
Typical Si etch rate, 400 ?/min
Up to 12“ Anodized RF Platen
Water Cooled and Heated RF Platen
Large Self Bias
Shower Head gas distribution
Approximay 10-6 Torr < 20 minutes, ~ 5 x10-7 Torr base pressure
Turbomolecular Pump
Up to eight MFCs
No flexing of gas lines
Down Stream Pressure Control
Dual Etch capability: RIE and Plasma Etch（Option）
End Point Detection
Pneumatically Lifted Top
Automatic loading/unloading
Load Lock
PC Controlled with LabVIEW
Recipe Driven, Password Protected
ully Safety Interlocked
Optional ICP source and cryogenic cooling of the platen for deep Si etch
