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NRE-3000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

參考價(jià)
面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)
  • 品牌其他品牌
  • 所在地國外
  • 更新時(shí)間2022-07-22
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限3
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量40
  • 人氣值673
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那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月,是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國大陸,香港,中國臺(tái)灣和澳門)的客戶,同時(shí)我們在中國大陸設(shè)有專門的服務(wù)辦公室,提供銷售和售后技術(shù)服務(wù)。


那諾-馬斯特中國的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測試設(shè)備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國,該公司是法國那諾-馬斯*限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司,是一家國際前列的缺陷檢測和高速鍍層測量的計(jì)量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。


自2001年Nano-Master開始設(shè)計(jì)開發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備,正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD,用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD,濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺 、組合濺),熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā),離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕,原子層沉積,兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時(shí)間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為國際薄膜設(shè)備的供應(yīng)商,已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個(gè)不同國家的大學(xué)、研發(fā)中心和國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室。

我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計(jì)和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)工程師、技術(shù)支持人員,使得公司擁有專業(yè)的服務(wù)團(tuán)隊(duì)。作為薄膜工藝的設(shè)備提供商,我們的目標(biāo)是提供高品質(zhì)的服務(wù)并始終維持超高水平的集成度。






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產(chǎn)地進(jìn)口 加工定制
NRE-3000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī):PC控制的RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2“的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持Z大到12“的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計(jì),真空泵可以達(dá)到10-6 Torr 或更小的極限真空。可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。
NRE-3000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī) 產(chǎn)品詳情

NRE-3000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)概述:獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2"的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持大到12"的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計(jì),并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6 Torr 或更小的極限真空。該系統(tǒng)系統(tǒng)可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個(gè)節(jié)流閥,一個(gè)250l/s的渦輪分子泵,濾網(wǎng)過濾器,以及一個(gè)10cfm的機(jī)械泵(帶Formblin泵油).RF射頻功率通過600W,13.56MHz的電源和自動(dòng)調(diào)諧器提供。系統(tǒng)將持續(xù)監(jiān)控直流自偏壓,該自偏壓可以高達(dá)-500V.這對于各向異性的刻蝕至關(guān)重要。


NRE-3000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是基于PC控制的全自動(dòng)系統(tǒng).系統(tǒng)真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實(shí)時(shí)顯示,流量及功率則以數(shù)字形式實(shí)時(shí)顯示.系統(tǒng)提供密碼保護(hù)的四級(jí)訪問功能:操作員級(jí)、工程師級(jí)、工藝人員級(jí),以及維護(hù)人員級(jí).允許半自動(dòng)模式(工程師模式)、寫程序模式(工藝模式), 和全自動(dòng)執(zhí)行程序模式(操作模式)運(yùn)行系統(tǒng)。基于全自動(dòng)的控制,該系統(tǒng)具有高度的可重復(fù)性。


產(chǎn)品特點(diǎn):

  • 鋁質(zhì)腔體或不銹鋼腔體

  • 不銹鋼立柜

  • 能夠刻蝕硅的化合物(~400? /min)以及金屬

  • 典型的硅刻蝕速率,400 ?/min

  • 高達(dá)12"的陽極氧化鋁RF樣品臺(tái)

  • 水冷及加熱的RF樣品臺(tái)

  • 大的自偏壓

  • 淋浴頭氣流分布

  • 極限真空5x10-7Torr,20分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6Torr級(jí)別

  • 渦輪分子泵

  • 至多支持4個(gè)MFC

  • 無繞曲氣體管路

  • 自動(dòng)下游壓力控制

  • 終點(diǎn)監(jiān)測

  • 氣動(dòng)升降頂蓋

  • 手動(dòng)上下載片

  • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制

  • 菜單驅(qū)動(dòng),4級(jí)密碼訪問保護(hù)

  • *的安全聯(lián)鎖

  • 可選ICP離子源以及低溫冷卻樣品臺(tái),用于深硅刻蝕


產(chǎn)品型號(hào):

  • NRE-4000:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的獨(dú)立式系統(tǒng),占地面積26“D x 44"W

  • NRE-3500:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的緊湊型獨(dú)立式系統(tǒng),占地面積26“D x 26"W

  • NRE-3000:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的臺(tái)式系統(tǒng),占地面積26“D x 26"W

  • NRP-4000:RIE/PECVD雙系統(tǒng)

  • NDR-4000:深RIE刻蝕(深硅刻蝕)系統(tǒng)


關(guān)鍵詞:真空泵 過濾器
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