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技術(shù)參數(shù)：
型號        溫度范圍（℃） 溫度波動度（℃） 工作槽容積（mm3） 工作槽開口（mm2） 容積（L） 循環(huán)泵流量（L/min）
SLDHX-020 -0～100 ±0.05 300×250×270 235*160 20 16
SLDHX-015 0~100 ±0.05 300×250×200 235*160 15 15
 產(chǎn)品介紹：
     低溫恒溫循環(huán)器系列產(chǎn)品針對科研、生物、物理、醫(yī)藥、化工等部門對恒溫精度要求較高而研制的低溫實(shí)驗(yàn)儀器，亦可作普通溫度計(jì)及其它溫度測量儀表制造中的定標(biāo)用途?？蔀橛脩艄ぷ鲿r提供一個熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗(yàn)樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品進(jìn)行恒定溫度試驗(yàn)或測試，也可作為直接制冷和制冷的冷源。
風(fēng)冷式高效全封閉制冷壓縮機(jī),降溫速度快。 
微機(jī)智能控制,溫度精確溫度。 
數(shù)顯分辨率0.01℃，具有溫度測量值偏差修正功能。 
溫度超溫保護(hù),自動切斷電源并報(bào)警。 
制冷系統(tǒng)過熱過流自動保護(hù)
低溫恒溫循環(huán)、器的應(yīng)用領(lǐng)域及范圍：
生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器（合成器）等。
材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機(jī)、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。
醫(yī)療領(lǐng)域：超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機(jī)、機(jī)、科研冷帽、降溫毯等等。
物化領(lǐng)域：激光器、磁場、各種分子泵、擴(kuò)散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設(shè)備。 
對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。 其他產(chǎn)業(yè)用機(jī)器發(fā)熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機(jī)、模具冷卻、洗凈機(jī)械、鍍金槽、精密研磨機(jī)、射出成型機(jī)、樹脂成型機(jī)的成型部分等。 分析檢測機(jī)器的發(fā)熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計(jì)的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調(diào)幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計(jì)的光源等。水箱可用優(yōu)質(zhì)的純凈水在機(jī)內(nèi)外循環(huán)冷卻，可保證對水質(zhì)要求較高的精密儀器的正常運(yùn)行，延長精密儀器的使用壽命。