主要產(chǎn)品技術(shù)特征及指標(biāo)：

● 軟件界面友好、科學(xué)、直觀?？蓪?duì)當(dāng)前曝光區(qū)域，待曝光區(qū)域，曝光參
數(shù)等信息提供實(shí)時(shí)的圖形化。
● 通過選配背面對(duì)準(zhǔn)模塊，可實(shí)現(xiàn)雙面對(duì)準(zhǔn)曝光，將該機(jī)型升級(jí)為具有雙
面對(duì)準(zhǔn)曝光功能步進(jìn)投影光刻機(jī)。
● 配置焦面檢測(cè)自動(dòng)控制系統(tǒng)，焦面位置設(shè)定后，曝光過程中自動(dòng)實(shí)時(shí)完
成焦面調(diào)整。
● 采用冷光膜與i線照明系統(tǒng)，曝光波長(zhǎng)為365nm，曝光面為冷光，曝光
圖形方、陡、直。
● 支持真空接觸曝光，硬接觸曝光，壓力接觸曝光，接近式曝光四種曝光
功能。
● 采用技術(shù)-積木錯(cuò)位蠅眼透鏡實(shí)現(xiàn)高均勻照明不均勻優(yōu)于2%。
● 采用*的離軸對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，對(duì)準(zhǔn)過程自動(dòng)完成，對(duì)各種不同大小的基片，（含碎片）對(duì)準(zhǔn)十分適用。
● 對(duì)準(zhǔn)精度：±0.5 μm。
● 照明均勻性：2%。
● 曝光面積：3mm×3 mm ~ 50mm×50mm。
● 調(diào)焦臺(tái)運(yùn)動(dòng)靈敏度：1 μm。
● 掩模尺寸：3英寸、4英寸、5英寸。
● 調(diào)焦臺(tái)運(yùn)動(dòng)行程：5mm。
● 光刻分辨力：0.3μm ~ 5 μm。
● 檢焦：CCD檢測(cè)，檢測(cè)精度0.5 μm。
● 光源：350W球形汞燈。
● 汞燈功率：1000W（直流，進(jìn)口直流高壓汞燈德國(guó)歐司朗)。