H20-UVL真空紫外光譜儀是基于單個全息凹面像差校正光柵，其波長覆蓋100-600nm范圍的單色儀。 它是采用緊湊的設(shè)計理念，在真空紫外段光源波長測量或低分辨率測量時，標(biāo)準(zhǔn)配備一個單通道探測器。 多通道探測器的攝譜儀版本也可根據(jù)要求提供。
主要應(yīng)用
?激發(fā)單色儀 (在熒光檢測中)
?遠(yuǎn)紫外反射和吸收測量
?等離子體物理研究
H20-UVL是一款基于覆蓋波長范圍為100-600 nm (2 to 12.4 eV) far UV (FUV) 的特別設(shè)計的單色儀，其中在低于190nm以下工作時是基于真空環(huán)境；高于190nm使用是基于大氣環(huán)境。這種專業(yè)的設(shè)計在保證良好的光通量的基礎(chǔ)上可以有效地降低雜散光的干擾，特別是在常見的儀器在低于140nm時若采用C-T結(jié)構(gòu)設(shè)計會造成信號損耗增加，數(shù)值孔徑變小的情況，而該款儀器通過優(yōu)化光學(xué)入射角的方式，很好地保證了光通量的降低。在VUV波段采用短焦距真空單色儀作為分光器件是一種非常理想的選擇，在遠(yuǎn)紫外低分辨光譜分析來說一般采用PMT或者Si探測器，但也可以采用光譜CCD或者MCP探測器。
技術(shù)參數(shù)
| 光學(xué)結(jié)構(gòu) | Spherical Type IV VLS single optic |
| 焦距長度 | 200 mm |
| 數(shù)字孔徑 | f/4.2 |
| 光柵密度 | 1200 gr/mm |
| 光學(xué)鍍膜 | MgF2 optimized at 121 nm |
| 光學(xué)入射角 | 64° |
| 線色散 | 3.6 nm/mm at 100 nm |
| 驅(qū)動方式 | Fast worm drive |
| 最小步距 | 0.06 nm |
| 掃描速度 | 400 nm/s |
| 光譜精度 | +/- 0.1 nm |
| 光譜重復(fù)性 | +/-0.06 nm |
| 光譜分辨率 | Better than 0.1 nm |
| 真空度 | 5 10-6 mbar |
| 法蘭接口 | DN63 LF |
| 入/出口 | Micrometric slits (10 um to 2 mm) |
| 入/出口法蘭 | DN25 KF |
| 通訊方式 | built-in USB2, no additional controller |
