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美國 KRI 射頻離子源 RFICP 100 等離子清洗器

參考價訂貨量

10

≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海
  • 更新時間2022-10-17
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 入駐年限5
  • 產(chǎn)品數(shù)量92
  • 人氣值1244
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位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,是日本伯東株式會社獨資設立的外商投資企業(yè),公司注冊資金為800萬美元。

本公司主要是一家以經(jīng)營電子接插件、線束、電線以及機械設備、中空產(chǎn)品等精密儀器、設備的維修,以及以半導體制造裝置、基板制造裝置、電腦軟件為主的貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易及保稅區(qū)企業(yè)間貿(mào)易及保稅區(qū)貿(mào)易代理、貿(mào)易及相關(guān)技術(shù)咨詢的公司。

公司一直堅持品質(zhì)*、信譽*的原則,為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務。到目前為止已先后通過了美國UL安全認證、 ISO9001-2000質(zhì)量體系認證、ISO14001-1996環(huán)境體系認證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本,不斷開拓進取的精神,為滿足客戶的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團化發(fā)展。

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產(chǎn)地進口 加工定制
上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 100, 離子束可聚焦, 平行, 散射.
KRI 射頻離子源屬于大面積射頻離子源, 離子束流: >350 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 流量(Typical flow):5-30 sccm
采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長.
美國 KRI 射頻離子源 RFICP 100 等離子清洗器 產(chǎn)品詳情

上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 100, 離子束可聚焦, 平行, 散射.

KRI 射頻離子源屬于大面積射頻離子源, 離子束流: >350 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 流量(Typical flow):5-30 sccm

采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長.

離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝.

適用于離子濺鍍和離子蝕刻, 實現(xiàn)完美的薄膜特性. 在離子刻蝕工藝中, 離子源與離子光學配合, 蝕刻更均勻. 

 

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 100 技術(shù)參數(shù):

型號

RFICP 100

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>350 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

10 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

5-30 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

23.5 cm

直徑

19.1 cm

中和器

LFN 2000

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

 

伯東 KRI 考夫曼離子源 RFICP 100 應用領(lǐng)域:

1. 預清洗

2. 表面改性

3. 輔助鍍膜(光學鍍膜) IBAD,

4. 濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

5. 離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD

6. 離子蝕刻 IBE

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