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公司介紹主營產品

位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)（上海）有限公司創(chuàng)建于1995年12月，, 是日本伯東株式會社獨資設立的外商投資企業(yè)，公司注冊資金為200萬美元，到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)（上海）有限公司真空產品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵，干泵，羅茨泵，分子泵；應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管)；檢漏儀，質譜儀，真空系統(tǒng)等等, 維修技術力量雄厚，保證 100 % 擁有標準的德國Pfeiffer原廠測試設備及調整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓工程師，多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調試、維修、拆機、保養(yǎng)等，具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務意識，并獲得原廠*維修資質證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設備對維修后的產品做*性能測試。另外公司還代理美國Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源，HVA 高真空閥門。公司一直堅持品質*、信譽*的原則，為廣大客戶提供了高品質的產品以及良好的售后服務。到目前為止已先后通過了美國UL安全認證、ISO9001－2000質量體系認證、ISO14001－1996環(huán)境體系認證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本，不斷開拓進取的精神，為滿足客戶的需求努力向專業(yè)化、優(yōu)質化、集團化發(fā)展。

為將國外的高科技產品與中國經濟和社會的飛速發(fā)展緊密結合，為促進國內.貿易的快速發(fā)展,伯東企業(yè)(上海)有限公司,以高科技推動現代化，以高質量服務全中國, 堅持不懈,奮斗不息。伯東公司是一家專業(yè)代理公司,代理上公司的半導體設備.接插件.電子器件.精密儀器等,公司秉承改革.創(chuàng)新.求真.發(fā)展的基本原則, 精心構建誠信、互動、共贏的價值體系, 為所有的客戶提供優(yōu)質的產品, 同時,提供全伯東集團網絡支持下的較早.Z快的信息與Z及時周到的服務,伯東公司愿意與世界各地的客戶聯(lián)手合作,共建一個誠信.發(fā)展.共同進步的良好環(huán)境.

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產品簡介在線詢價

產地	進口	加工定制	否

上海伯東KRI 霍爾離子源 eH 系列緊湊設計, 高電流低能量寬束型離子源, 提供原子等級的細微加工能力, 霍爾離子源 eH 可以有效地以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業(yè), 半導體應用. 霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設計有效提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū).

伯東代理KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列產品詳情

價格電議

美國 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列

美國 KRI

霍爾離子源 eH 系列緊湊設計, 高電流低能量寬束型離子源, 提供原子等級的細微加工能力, 霍爾離子源 eH 可以有效地以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業(yè), 半導體應用. 霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設計有效提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū). 整體易操作, 易維護. 霍爾離子源 eH 提供一套完整的方案包含離子源, 電子中和器, 電源供應器, 流量控制器 MFC 等等可以直接整合在各類真空設備中, 例如鍍膜機, load lock, 濺射系統(tǒng), 卷繞鍍膜機等.

美國 KRI 霍爾離子源 eH 特性

無柵ji

高電流低能量

發(fā)散光束 >45

可快速更換陽極模塊

可選 Cathode / Neutralize 中和器

美國 KRI 霍爾離子源 eH 主要應用

輔助鍍膜 IBAD

濺鍍&蒸鍍 PC

表面改性、激活 SM

沉積 (DD)

離子蝕刻 LIBE

光學鍍膜

Biased target ion beam sputter deposition (BTIBSD)

Ion Beam Modification of Material Properties (IBM)

例如

1. 離子輔助鍍膜及電子槍蒸鍍

2. 線上式磁控濺射及蒸鍍設備預清洗

3. 表面處理

4. 表面硬化層鍍膜

5. 磁控濺射輔助鍍膜

7. 偏壓離子束磁控濺射鍍膜

美國 KRI 霍爾離子源 Gridless eH

霍爾離子源 eH 系列在售型號:

型號	eH200(停產)	eH400 eH400LE	eH1000 eH1000LE eH1000LO	eH1000xO2	eH2000 eH2000LE eH2000HO	eH3000 eH3000LO eH3000MO
Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others
Cathode/Neutralizer	F or HC	F or HC	F or HC	F or HC	F or HC HC HC	HC
電壓	30-300V	50-300V 30-150V	50-300V 30-150V 50-300V	100-300V	50-300V 30-150V 50-250V	50-250V 50-300V 50-250V
電流	2A	5A 10A	10A 12A 5A	10A	10A 15A 15A	20A 10A 15A
散射角度	>45	>45	>45	>45	>45	>45
氣體流量	1-15sccm	2-25sccm	2-50sccm	2-50sccm	2-75sccm	5-100sccm
高度	2.0“	3.0“	4.0“	4.0“	4.0“	6.0“
直徑	2.5“	3.7“	5.7“	5.7“	5.7“	9.7“
水冷	無	可選	可選	可選	是	可選

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current
霍爾離子源 Gridless 提供高電流低能量 end-Hall 系列產品, 包含寬束霍爾離子源和電源控制器, 整體設計, 易于系統(tǒng)集成, 霍爾離子源典型應用: 輔助鍍膜 IABD, 鍍膜預清潔 ISSP, 離子蝕刻等

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產

考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發(fā)展已取得多項. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理.

若您需要進一步的了解詳細產品信息或討論 , 請參考以下聯(lián)絡方式 :

上海伯東 : 羅先生中國臺灣伯東 : 王小姐

關鍵詞：鍍膜機流量控制器

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