產品概述：1050度高溫臺

本高溫加熱臺有一個可移動的蓋子，即阻止過量的熱輻射，又方便掃描電鏡的原位觀測。利用該加熱臺，可進行大量的冶金學和材料科學研究，比如動態(tài)的相變觀測、微結構（組織）的變化等，從而為材料研究或失效分析等提供大量有用的信息。 利用特殊的設備，還可進行動態(tài)的氣相反應研究。結合EBSD，還可觀測再結晶效應等。

1050度高溫臺該樣品臺主要用于掃描電鏡的加熱實驗（室溫至1050℃）。 

利用該樣品臺可進行腐蝕實驗，和氣體或蒸汽中的加熱實驗 (不可通入氧氣和水)。 在加熱過程中，通過法蘭盤上的一個針閥將微細的氣流或蒸汽通入加熱腔中。此時，馬達驅動的蓋子將加熱腔封閉以與電鏡真空相隔絕，防止意外損害的發(fā)生。整個高溫加熱過程中，蓋子都將處于封閉狀態(tài)。在氣氛條件下的高溫實驗結束后，蓋子被打開，以觀察實驗后樣品表面的變化。

當然，如果不做氣氛實驗且探頭能承受高溫，蓋子可一直被打開以實時觀測加熱過程中樣品表面的變化。

該加熱臺的核心部分是一個陶瓷電阻加熱器。加熱器中間的樣品夾持器形狀可選，有杯狀、平板狀等多種可供選擇。直徑大至 25mm 的碟狀樣品可通過一個小鎢絲彈簧夾持。

加熱臺*的加熱爐有多層輻射反射層將熱量集中于爐子*，且整個加熱部分立于一些*上，以防止熱量從加熱臺向電鏡樣品臺傳導。

本加熱臺采取了多種防護措施防止可能產生的電場對電鏡圖像產生干擾。

注意:

在進行氣氛加熱試驗前，請確認加熱臺的所有部件不會與氣氛發(fā)生任何反應。本加熱臺所采用的材料包括：鎢、鉬和三氧化二鋁。

溫度控制器

用戶可選 PID 控制器或手動控制器。

溫度范圍

室溫至  300℃, 500℃, 800℃或 1050℃。

SEM樣品臺適配

該加熱模塊可像一個大號樣品一樣裝載在電鏡樣品臺上使用，適用于大部分型號的掃描電鏡。

氣氛加熱

300℃和500℃的加熱臺可在真空環(huán)境中使用，也可在大氣環(huán)境中使用。更高溫度的加熱臺則只能在高真空或低真空環(huán)境中使用。本加熱臺則有一個*功能：其可以在封閉的加熱腔中通入特定氣氛以實現氣氛加熱實驗（亦可通入腐蝕性氣體進行腐蝕性實驗）。 

尺寸: 

大約. 65 mm x 55 mm x 38 mm.