SPECTRO GENESIS ICP等離子發(fā)射光譜儀

應用SPECTRO側(cè)向等離子體接口（SPI?）的側(cè)向觀測等離子體用于高濃度和主成分檢測、高固含量和有機物分析，可以提高線性范圍、準確度和精度。

  利用優(yōu)化的層流、低流速吹掃機理的SPI保證光路中無氧氣、減少對紫外區(qū)波長的吸收。這個技術(shù)可保證易維護的入射光學組件不受污染，使得175-190nm光譜范圍的譜線的穩(wěn)定和超常的靈敏度。

  用于工業(yè)分析的工廠預校準分析方法包。下面是可供選擇的方法包：
工業(yè)廢水（只有基本的方法）、污泥、土壤、油品中磨損金屬/添加劑、礦石、金屬材料

分光系統(tǒng)：
  恒溫在+30?C ? 0.1?C；中空防熱彭脹雙帕邢－龍格羅蘭圓設計；焦距400mm；全息凹面原光柵，刻線密度2400刻線/mm；石英光學部件；全部是1級波長覆蓋；波長范圍：175 - 777 nm；入射狹縫：15 μm

SPECTRO GENESIS ICP等離子發(fā)射光譜儀檢測器：
  根據(jù)所在波長精心選擇并進行優(yōu)化設計的15個線性CCD連續(xù)排列在羅蘭圓上；分辨率14pm；與光學系統(tǒng)一樣恒溫在；動態(tài)范圍為108，全波長覆蓋，ICAL自動標準化

紫外系統(tǒng)：
  氬氣吹掃系統(tǒng), 佳化低流量吹掃(只在分析190nm以下元素時使用)

高頻發(fā)生器：免維護型，頻率為27.12MHz，發(fā)生器功率：0.7 to 1.7 kW

進樣系統(tǒng)及炬管單元
• Lock-in-Place快速換裝設計
• Gas flows under full computer control氣體流量全部由計算機控制
o Plasma gas等離子氣  : 0 – 20 l/min in 0.1 l/min increments
o Auxiliary gas輔助氣  : 0 – 3 l/min in 0.01 l/min increments
o Nebulizer gas霧化氣  : 0 – 1.5 l/min in 0.01 l/min increments 
• 計算機控制4速、3通道、12滾軸進樣蠕動泵