高純氧化鋁研磨高剪切研磨機(jī),氧化鋁均質(zhì)分散研磨機(jī),氧化鋁水性漿料研磨機(jī),三氧化二鋁均質(zhì)分散研磨機(jī)，氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機(jī)1-8-2-0-1-8-9-1-1-8-3

氧化鋁研磨分散機(jī)的設(shè)備技術(shù)越來越高，可以生產(chǎn)1微米以下的氧化鋁。納米氧化鋁透明液體XZ-LY101體顏色無色透明。該納米氧化鋁透明分散液中使用的是5-10納米的氧化鋁，該氧化鋁是納米氧化鋁經(jīng)過層層深加工篩選出來的氧化鋁，添加到各種丙烯酸樹脂，聚氨酯樹脂，環(huán)氧樹脂，三聚氰胺樹脂，硅丙乳液等樹脂的水性液體中，添加量為5%到10%，可以提高樹脂的硬度，硬度可達(dá)6-8H，*透明，該納米氧化鋁液體可以是水性的或者油性的任何溶劑，同時可以做各種玻璃涂層材料，寶石，精密儀器材料等。

氧化鋁陶瓷隔膜漿料分散機(jī)可以為氧化鋁粉的生產(chǎn)工業(yè)中產(chǎn)生大量的尾礦和赤泥對環(huán)境的影響非常大，鋁土礦作為*資源， 其保障程度直接制約著一個地區(qū)氧化鋁工業(yè)的總量與生存周期。因此，各級政府和有關(guān)部門，必須準(zhǔn)確把握氧化鋁工業(yè)的發(fā)展形勢，資源與環(huán)境制約狀況和基本規(guī)律，按照總量控制的要求，嚴(yán)格控制新建氧化鋁項目，堅決制止盲目發(fā)展和低水平重復(fù)建設(shè)，努力實現(xiàn)氧化鋁工業(yè)發(fā)展與資源充分利用，優(yōu)化生態(tài)環(huán)境相統(tǒng)一。

高純氧化鋁研磨分散機(jī),氧化鋁均質(zhì)分散乳化機(jī),氧化鋁水性漿料分散機(jī)
設(shè)備參數(shù)

•      連續(xù)分散機(jī)

•      優(yōu)化分散頭 2G, 4M, 6F，8SF

•      可選分散頭

•      內(nèi)表面 Ra 0,8-1,2

•      選項:

–     雙層外罩

–      不同的法蘭盤，例如DIN 11851, DIN 2633 , 三向夾扣, ANSI #150 法蘭盤

–     不同的選擇材料

–     內(nèi)外表面拋光 Ra 0,8 (pharma)

–     與PLC相同的泵葉片

•      輔助部件:慮網(wǎng), 套管

•      電子控制

99.995%高純氧化鋁系列主要用于LED人造藍(lán)寶石晶體，高級陶瓷，PDP熒光粉及一些高性能材料。作為藍(lán)寶石晶體原料，根據(jù)不同的要求可提供粉體，顆粒，塊狀或者柱狀等類型。德國IKN技術(shù)可以為氧化鋁工業(yè)帶來重要性的生產(chǎn)發(fā)展
IKN氧化鋁高剪切均質(zhì)乳化機(jī)應(yīng)用于各種物料的超細(xì)粉碎，如農(nóng)藥、醫(yī)藥、炭黑、白炭黑、AC發(fā)泡劑、復(fù)印墨粉、熒光粉、鋯英砂、氧化鋁、氧化鋯、碳酸鋇、涂料、石墨、塑料盒橡膠用各種填充劑、非金屬礦，以及各種高價值營養(yǎng)品、珍珠粉、花粉等。隨著高科技產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，對各種物料的超細(xì)粉碎要求的提高，還會應(yīng)用到更加廣闊的領(lǐng)域。

高純氧化鋁研磨高剪切研磨機(jī),氧化鋁均質(zhì)分散研磨機(jī),氧化鋁水性漿料研磨機(jī),三氧化二鋁均質(zhì)分散研磨機(jī)，氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機(jī)

IKN氧化鋁均質(zhì)分散研磨機(jī)的技術(shù)參數(shù)：

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

從設(shè)備角度分析，影響研磨效果的因素：

1 磨頭的形式（臥式和立式）

2 磨頭的剪切速率

3 磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（見磨頭結(jié)構(gòu)）

4 物料在磨頭墻體的停留時間，乳化分散時間

5 循環(huán)次數(shù)

研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

研磨速率 (s-1) = v  速率 (m/s)  
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，研磨速率取決于以下因素：

• 磨頭的線速率

• 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 （相對而言）

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

IKN設(shè)備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1

F=40/0.7/X1000=57142 S-1