納米金剛石拋光液研磨分散機(jī)，納米金剛石研磨分散機(jī)，進(jìn)口納米研磨分散機(jī)，德國(guó)研磨分散機(jī)，IKN研磨分散機(jī)，立式研磨分散機(jī)，管線式研磨分散機(jī)
IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。
IKN研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過(guò)研磨分散機(jī)定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及分散的效果。
由于納米材料具有顆粒尺寸小、比表面積大、表面能高、表面原子所占比例大等特點(diǎn)，以及其*的四大效應(yīng)：小尺寸效應(yīng)、量子尺寸效應(yīng)、量子隧道效應(yīng)和表面效應(yīng)，從而具有傳統(tǒng)材料所不具備的奇異或反常的物理、化學(xué)特性。
常規(guī)的拋光液是將不同粒徑的顆粒放入基液制成拋光劑，廣泛用于金相拋光、高級(jí)照像鏡頭拋光、高級(jí)晶體拋光以及巖石拋光等。***細(xì)的顆粒尺寸一般在微米到亞微米級(jí)。隨著高技術(shù)的飛快發(fā)展，要求晶體的表面有更高的光潔度。這就要求拋光劑中的顆粒越來(lái)越細(xì)，分布越來(lái)越窄，納米微粒為實(shí)現(xiàn)這個(gè)目標(biāo)提供了基礎(chǔ)。目前已制成的用納米金剛石配置的超精拋光液、拋光膏，可用于紅、藍(lán)寶石、首飾、高級(jí)光學(xué)鏡頭和激光鏡頭的精拋光，表面粗糙度可達(dá)Rmax<<1nm
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CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
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