納米*涂料研磨分散機,納米*涂料高速研磨機,納米*涂料德國研磨分散機,納米*涂料高速研磨分散機,14000轉納米*涂料研磨機
IKN研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
納米*涂料外觀為白色液體。在可見光或紫外光的作用下具有很強的氧化還原能力,化學性能穩(wěn)定,能將甲醛、甲苯、二甲苯、氨、氡、TVOC等有害有機物、污染物、臭氣、細菌、微生物等有害有機物*分解成無害的CO2 和 H2O,并具有去除污染物、親水性、自潔性等特性,性能持久,不產生二次污染。
納米*涂料性能:
1、光催化效率高。 對裝修污染物甲醛、苯、氨及其它有機污染物均有強力分解去除效果。分解率達90%以上。濃度低時也不降低凈化效率。 對甲醛、苯、氨氣、二氧化硫、一氧化碳、氮氧化物等影響人類身體健康的有害有機物起到凈化作用。
2、殺菌效率高。 殺菌率在無光下達99%以上,有紫外光照射時可達99.99%。*的氧化能力能造成細胞死亡,降低病毒的活性,并且捕捉、分解空氣中的浮游細菌。有效除去大腸桿菌、黃葡萄球菌、白癬菌、徽菌、化膿菌、綠膿菌等細菌,抑制如腸病毒、流行性感冒、濾過性病毒等病原的傳播。
3、無毒無害。光觸媒*可作為食品添加劑使用。不同于一般消毒劑,在殺死細菌病毒的同時,也可分解掉其分泌的毒素,不存在二次污染問題。
4、*的屏蔽紫外線作用,對紅外線也有反射作用
5、很好的成膜性,成膜光滑平整,常溫固化時間短,使用時間長達10年以上
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上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤??筛鶕?jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前國產設備轉速的4-5倍。
從設備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60
所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
CMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節(jié)到zui大允許量的10%
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