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CMSD2000 納米*涂料研磨分散機-研磨機(研磨儀)

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具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號CMSD2000
  • 品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時間2017-09-22
  • 廠商性質生產廠家
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產品數(shù)量136
  • 人氣值1625
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  上海依肯機械設備有限公司是一家中德合作經(jīng)營企業(yè),依肯通過引進德國IKN*技術和科學管理模式,形成了完整的研發(fā)、制造及營銷體系。她保持與的混合乳化技術同步,同時擁有*的技術研究人才和生產能力,為中國及提供多元化的產品及技術服務。她已經(jīng)發(fā)展成為中國流體高剪切混合設備行業(yè)的。

  

  公司主要研發(fā),生產制造,銷售流體領域的幾大系列:一乳化機,二均質機,三分散機,四膠體磨,五乳化泵,六成套設備等系列。為混合、分散、均質、懸浮、乳化、濕磨、粉液混合等領域提供高品質的解決方案,設備加工材料細度可達微納米級別。依肯公司作為國內的供應商,憑借著對廣大客戶要求的深入了解,為客戶解決流程工藝中的難題,混合技術,乳化均質,粉液混合技術和合理的配置方案,確保設備運行穩(wěn)定的可靠性。她已廣泛應用于石油、石化、化工、食品、生物制藥、核工業(yè)、精細化工等領域,并成功為國家重點工程配套,部分產品返銷國外,取得了顯著的經(jīng)濟效益和社會效益。

  

  “追求高品質”是依肯公司是的宗旨。“成功源自創(chuàng)新”亦是公司全體員工一直努力追隨的目標。上海依肯機械設備有限公司將以求實、創(chuàng)新的企業(yè)精神走向市場。在您在關注和支持下、她將以不斷發(fā)展壯大,在混合乳化設備制造的廣闊天地中散發(fā)出*的魅力。


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產地進口 加工定制 適用領域化工
納米*涂料研磨分散機立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
納米*涂料研磨分散機-研磨機(研磨儀) 產品詳情

納米*涂料研磨分散機,納米*涂料高速研磨機,納米*涂料德國研磨分散機,納米*涂料高速研磨分散機,14000轉納米*涂料研磨機

 

IKN研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

 

 

納米*涂料外觀為白色液體。在可見光或紫外光的作用下具有很強的氧化還原能力,化學性能穩(wěn)定,能將甲醛、甲苯、二甲苯、氨、氡、TVOC等有害有機物、污染物、臭氣、細菌、微生物等有害有機物*分解成無害的CO2 H2O,并具有去除污染物、親水性、自潔性等特性,性能持久,不產生二次污染。

 

納米*涂料性能:

1、光催化效率高。 對裝修污染物甲醛、苯、氨及其它有機污染物均有強力分解去除效果。分解率達90%以上。濃度低時也不降低凈化效率。 對甲醛、苯、氨氣、二氧化硫、一氧化碳、氮氧化物等影響人類身體健康的有害有機物起到凈化作用。

2、殺菌效率高。 殺菌率在無光下達99%以上,有紫外光照射時可達99.99%。*的氧化能力能造成細胞死亡,降低病毒的活性,并且捕捉、分解空氣中的浮游細菌。有效除去大腸桿菌、黃葡萄球菌、白癬菌、徽菌、化膿菌、綠膿菌等細菌,抑制如腸病毒、流行性感冒、濾過性病毒等病原的傳播。

3、無毒無害。光觸媒*可作為食品添加劑使用。不同于一般消毒劑,在殺死細菌病毒的同時,也可分解掉其分泌的毒素,不存在二次污染問題。

4、*的屏蔽紫外線作用,對紅外線也有反射作用

5、很好的成膜性,成膜光滑平整,常溫固化時間短,使用時間長達10年以上

 

納米*涂料研磨分散機,納米*涂料高速研磨機,納米*涂料德國研磨分散機,納米*涂料高速研磨分散機,14000轉納米*涂料研磨機

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤??筛鶕?jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前國產設備轉速的4-5倍。

 

 

從設備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

 

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節(jié)到zui大允許量的10%

,納米*涂料高速研磨機,納米*涂料德國研磨分散機,納米*涂料高速研磨分散機,14000轉納米*涂料研磨機

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